【12/14(木)17時より】CiNiiの常時SSL化(HTTPS接続)について

溶融成長法による大型酸化物超伝導体の作製と高臨界電流密度化に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 森田, 充 モリタ, ミツル

書誌事項

タイトル

溶融成長法による大型酸化物超伝導体の作製と高臨界電流密度化に関する研究

著者名

森田, 充

著者別名

モリタ, ミツル

学位授与大学

北海道大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第5221号

学位授与年月日

1997-09-30

注記・抄録

博士論文

125p.

Hokkaido University(北海道大学). 博士(工学)

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 序言 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 研究の背景 / p3 (0006.jp2)
  5. 1.3 研究開発開始当時のYを含むRE系超伝導体に関連した知見と高Jc化の状況 / p5 (0007.jp2)
  6. 1.4 本研究の概要 / p8 (0009.jp2)
  7. 1.5 各章の構成と概要 / p11 (0010.jp2)
  8. 参考文献 / p14 (0012.jp2)
  9. 第2章 焼結体および溶融凝固材の臨界電流密度 / p17 (0013.jp2)
  10. 2.1 序言 / p17 (0013.jp2)
  11. 2.2 臨界電流密度と磁化 / p17 (0013.jp2)
  12. 2.3 焼結体および溶融凝固材の組織と臨界電流密度 / p22 (0016.jp2)
  13. 2.4 まとめ / p31 (0020.jp2)
  14. 参考文献 / p32 (0021.jp2)
  15. 第3章 Quench and Melt Growth法によるバルク超伝導材料の作製とその性状 / p33 (0021.jp2)
  16. 3.1 序言 / p33 (0021.jp2)
  17. 3.2 Quench and Melt Growth(QMG)法とQMG材料 / p33 (0021.jp2)
  18. 3.3 QMG材料の臨界電流密度の温度・磁場・結晶方位依存性 / p42 (0026.jp2)
  19. 3.4 まとめ / p51 (0030.jp2)
  20. 参考文献 / p52 (0031.jp2)
  21. 第4章 改良型QMG法による大型QMG材料の育成 / p53 (0031.jp2)
  22. 4.1 序言 / p53 (0031.jp2)
  23. 4.2 改良型QMG法の概要 / p53 (0031.jp2)
  24. 4.3 Pt添加による211相の微細分散 / p54 (0032.jp2)
  25. 4.4 希土類元素(RE)置換による123相生成温度の変化 / p59 (0034.jp2)
  26. 4.5 種付けによる核生成および結晶方位の制御 / p64 (0037.jp2)
  27. 4.6 RE組成勾配 / p66 (0038.jp2)
  28. 4.7 211相による磁束ピンニングとQMG材料のJcに関する考察 / p68 (0039.jp2)
  29. 4.8 まとめ / p73 (0041.jp2)
  30. 参考文献 / p75 (0042.jp2)
  31. 第5章 QMG材料の結晶成長 / p77 (0043.jp2)
  32. 5.1 序言 / p77 (0043.jp2)
  33. 5.2 融液から成長した結晶の不完全構造に関する一般論 / p77 (0043.jp2)
  34. 5.3 結晶成長過程と結晶性の関する実験および考察 / p78 (0044.jp2)
  35. 5.4 結晶成長機構に関する実験と考察 / p87 (0048.jp2)
  36. 5.5 まとめ / p93 (0051.jp2)
  37. 参考文献 / p95 (0052.jp2)
  38. 第6章 QMG材料の応用 / p97 (0053.jp2)
  39. 6.1 序言 / p97 (0053.jp2)
  40. 6.2 現在検討が進められている各種応用例 / p97 (0053.jp2)
  41. 6.3 バルクマグネットの作製と評価 / p99 (0054.jp2)
  42. 6.4 コイルマグネット試作と評価 / p106 (0058.jp2)
  43. 6.5 まとめ / p110 (0060.jp2)
  44. 参考文献 / p111 (0060.jp2)
  45. 第7章 結論 / p113 (0061.jp2)
  46. 7.1 総括 / p113 (0061.jp2)
  47. 7.2 残された課題と今後の展望 / p116 (0063.jp2)
  48. 著者が関連する文献および特許一覧 / p119 (0064.jp2)
  49. 謝辞 / p125 (0067.jp2)
5アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000151491
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001068436
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000315805
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ