パルスラジオリシス・マイクロ波加熱空洞法による低エネルギー電子付着過程の研究

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博士論文

目次 / (0002.jp2)
第一章序論 / p1 (0003.jp2)
第一節弱電離プラズマ内の反応素過程の研究意義 / p1 (0003.jp2)
第二節電子付着過程の様式 / p3 (0004.jp2)
第三節研究目的 / p4 (0005.jp2)
第四節低エネルギー領域の電子付着反応の研究の現状 / p5 (0005.jp2)
第二章パルスラジオリシス･マイクロ波加熱空洞法 / p7 (0006.jp2)
第一節マイクロ波空洞法の原理 / p7 (0006.jp2)
第二節実験装置 / p9 (0007.jp2)
第三節気体試料 / p15 (0010.jp2)
第四節パルスラジオリシス･マイクロ波加熱空洞法 / p19 (0012.jp2)
第五節データ解析 / p34 (0020.jp2)
第三章結果と考察 / p37 (0021.jp2)
第一節緒言 / p37 (0021.jp2)
第二節ハロゲン化メタンの電子付着 / p39 (0022.jp2)
第三節臭化エタン･エチレンの電子付着 / p66 (0036.jp2)
第四節ヨウ化エタン･プロパンの電子付着 / p77 (0041.jp2)
第五節ハロゲン化ベンゼン･パーフルオロハロゲン化ベンゼンの電子付着 / p83 (0044.jp2)
第六節各種ハロゲン化合物の低エネルギー電子付着反応における媒体温度効果 / p98 (0052.jp2)
第七節ハロゲン化合物の電子付着断面積と負イオンポテンシャルエネルギー曲線 / p109 (0057.jp2)
第四章総括 / p129 (0067.jp2)
引用文献 / p131 (0068.jp2)
発表論文目録 / p137 (0071.jp2)
講演発表 / p139 (0072.jp2)
謝辞 / p145 (0075.jp2)