半導体素子製造工程における溶液洗浄処理後のシリコン表面の構造に関する研究

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著者

    • 小川, 洋輝 オガワ, ヒロキ

書誌事項

タイトル

半導体素子製造工程における溶液洗浄処理後のシリコン表面の構造に関する研究

著者名

小川, 洋輝

著者別名

オガワ, ヒロキ

学位授与大学

武蔵工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第38号

学位授与年月日

1997-09-18

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0002.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 本論文の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 溶液洗浄処理後のシリコン表面状態に関する研究の現状 / p3 (0007.jp2)
  5. 1.3 本論文の目的と位置づけ / p8 (0012.jp2)
  6. 1.4 本論文の概要 / p9 (0013.jp2)
  7. 参考文献 / p13 (0017.jp2)
  8. 第2章 表面構造の評価方法 / p19 (0023.jp2)
  9. 2.1 赤外分光法 / p19 (0023.jp2)
  10. 2.2 赤外全反射吸収測定法とSi-H結合の検出 / p24 (0028.jp2)
  11. 2.3 赤外反射吸収測定法とSi-O-Si伸縮振動に由来する赤外吸収スペクトル / p34 (0038.jp2)
  12. 2.4 X線光電子分光法 / p38 (0042.jp2)
  13. 2.5 局所的電気陰性度による結合エネルギーの算出 / p46 (0050.jp2)
  14. 2.6 第2章のまとめ / p47 (0051.jp2)
  15. 参考文献 / p47 (0051.jp2)
  16. 第3章 水素終端シリコン表面の自然酸化過程 / p49 (0053.jp2)
  17. 3.1 はじめに / p49 (0053.jp2)
  18. 3.2 実験方法 / p49 (0053.jp2)
  19. 3.3 実験結果および考察 / p50 (0054.jp2)
  20. 3.4 第3章のまとめ / p68 (0072.jp2)
  21. 参考文献 / p70 (0074.jp2)
  22. 第4章 ふっ酸溶液中の溶存酸素がシリコン表面構造に及ぼす影響 / p73 (0077.jp2)
  23. 4.1 はじめに / p73 (0077.jp2)
  24. 4.2 実験方法 / p73 (0077.jp2)
  25. 4.3 実験結果および考察 / p75 (0079.jp2)
  26. 4.4 第4章のまとめ / p88 (0092.jp2)
  27. 参考文献 / p90 (0094.jp2)
  28. 第5章 塩酸溶液、塩酸・ふっ酸混合溶液処理後のシリコン表面 / p92 (0096.jp2)
  29. 5.1 はじめに / p92 (0096.jp2)
  30. 5.2 実験方法 / p92 (0096.jp2)
  31. 5.3 装置関数の決定 / p92 (0096.jp2)
  32. 5.4 実験結果および考察 / p95 (0099.jp2)
  33. 5.5 第5章のまとめ / p107 (0111.jp2)
  34. 参考文献 / p109 (0113.jp2)
  35. 第6章 溶液中で形成される化学酸化膜の構造 / p111 (0115.jp2)
  36. 6.1 はじめに / p111 (0115.jp2)
  37. 6.2 実験方法 / p112 (0116.jp2)
  38. 6.3 実験結果および考察 / p113 (0117.jp2)
  39. 6.4 第6章のまとめ / p129 (0133.jp2)
  40. 参考文献 / p131 (0135.jp2)
  41. 第7章 溶液処理順序が化学酸化膜の構造に及ぼす影響 / p134 (0138.jp2)
  42. 7.1 はじめに / p134 (0138.jp2)
  43. 7.2 実験方法 / p134 (0138.jp2)
  44. 7.3 結果および考察 / p134 (0138.jp2)
  45. 7.4 第7章のまとめ / p141 (0145.jp2)
  46. 第8章 結論 / p142 (0146.jp2)
  47. 研究業績 / p147 (0151.jp2)
  48. 謝辞 / p154 (0158.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000152059
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001068976
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000316373
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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