誘導コイル結合型高周波放電を利用した金属イオンの発生とその応用

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著者

    • 山下, 睦雄 ヤマシタ, ムツオ

書誌事項

タイトル

誘導コイル結合型高周波放電を利用した金属イオンの発生とその応用

著者名

山下, 睦雄

著者別名

ヤマシタ, ムツオ

学位授与大学

京都大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第9715号

学位授与年月日

1997-11-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. 目次 / p1 (0007.jp2)
  3. 第1章 序論 / p1 (0010.jp2)
  4. 1･1 本研究の背景 / p1 (0010.jp2)
  5. 1･2 本研究の目的と方法 / p4 (0012.jp2)
  6. 1･3 本論文の構成と内容 / p4 (0012.jp2)
  7. 第1章の参考文献 / p8 (0014.jp2)
  8. 第2章 誘導コイル結合型高周波放電によるプラズマの発生とその基本特性および磁界の効果 / p11 (0015.jp2)
  9. 2･1 まえがき / p11 (0015.jp2)
  10. 2･2 高周波放電プラズマの発生 / p12 (0016.jp2)
  11. 2･3 高周波放電プラズマの特性 / p21 (0020.jp2)
  12. 2･4 誘導コイル結合型高周波放電諸特性に及ぼす垂直磁界B⊥の効果 / p28 (0024.jp2)
  13. 2･5 あとがき / p38 (0029.jp2)
  14. 第2章の参考文献 / p40 (0030.jp2)
  15. 第3章 平板金属材料のスパッタとイオン化 / p42 (0031.jp2)
  16. 3･1 まえがき / p42 (0031.jp2)
  17. 3･2 スパッタ粒子のイオン化割合の見積もり / p42 (0031.jp2)
  18. 3･3 引出しイオンビームの質量スペクトル / p44 (0032.jp2)
  19. 3･4 スパッタ粒子のイオン化の機構 / p46 (0033.jp2)
  20. 3･5 引出しイオンビームの質量スペクトルに及ぼす平行磁界[化学式]の効果 / p48 (0034.jp2)
  21. 3･6 スパッタ速度とその制御 / p58 (0039.jp2)
  22. 3･7 あとがき / p60 (0040.jp2)
  23. 第3章の参考文献 / p62 (0041.jp2)
  24. 第4章 コイルターゲット型高周波スパッタによる金属イオンの発生 / p63 (0041.jp2)
  25. 4･1 まえがき / p63 (0041.jp2)
  26. 4･2 実験装置 / p63 (0041.jp2)
  27. 4･3 実験結果 / p65 (0042.jp2)
  28. 4･4 高速イオンプレーティングおよび金属イオン源への応用に関する検討 / p75 (0047.jp2)
  29. 4･5 あとがき / p76 (0048.jp2)
  30. 第4章の参考文献 / p77 (0048.jp2)
  31. 第5章 イオン衝撃加熱による棒状固体材料の蒸発とイオン化 / p78 (0049.jp2)
  32. 5･1 まえがき / p78 (0049.jp2)
  33. 5･2 実験装置の構造および動作原理 / p81 (0050.jp2)
  34. 5･3 実験結果および検討 / p84 (0052.jp2)
  35. 5･4 単孔式金属イオンビームの引出しと質量スペクトル / p90 (0055.jp2)
  36. 5･5 考察 / p96 (0058.jp2)
  37. 5･6 あとがき / p107 (0063.jp2)
  38. 第5章の参考文献 / p108 (0064.jp2)
  39. 第6章 薄膜形成用低エネルギー金属イオン源への応用 / p109 (0064.jp2)
  40. 6･1 まえがき / p109 (0064.jp2)
  41. 6･2 プラズマ電位とその制御法 / p110 (0065.jp2)
  42. 6･3 プラズマ電位と引出しイオンビームエネルギーの関係 / p118 (0069.jp2)
  43. 6･4 基板入射イオン化粒子のエネルギー制御 / p122 (0071.jp2)
  44. 6･5 バイアススパッタによる基板入射イオン化粒子のエネルギー制御 / p128 (0074.jp2)
  45. 6･6 形成膜の純度 / p129 (0074.jp2)
  46. 6･7 各種薄膜形成への応用結果 / p131 (0075.jp2)
  47. 6･8 あとがき / p136 (0078.jp2)
  48. 第6章の参考文献 / p138 (0079.jp2)
  49. 第7章 イオンビーム･デポジション用金属イオン源への応用 / p140 (0080.jp2)
  50. 7･1 まえがき / p140 (0080.jp2)
  51. 7･2 実験装置 / p142 (0081.jp2)
  52. 7･3 実験結果および検討 / p148 (0084.jp2)
  53. 7･4 あとがき / p157 (0088.jp2)
  54. 第7章の参考文献 / p159 (0089.jp2)
  55. 第8章 結論 / p161 (0090.jp2)
  56. 謝辞 / p167 (0093.jp2)
4アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000152448
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001086637
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000316762
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション

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