半導体外部光変調器の高性能化におけるプロセス技術に関する研究

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著者

    • 小高, 勇 コタカ, イサム

書誌事項

タイトル

半導体外部光変調器の高性能化におけるプロセス技術に関する研究

著者名

小高, 勇

著者別名

コタカ, イサム

学位授与大学

東海大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第310号

学位授与年月日

1997-09-22

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 研究の背景と位置づけ / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 外部光変調器の有用性 / p7 (0012.jp2)
  5. 1.3 本研究の目的と経緯 / p8 (0013.jp2)
  6. 1.4 本論文の構成 / p10 (0015.jp2)
  7. 文献 / p12 (0017.jp2)
  8. 第2章 基本プロセス技術の開発 / p20 (0025.jp2)
  9. 2.1 まえがき / p20 (0025.jp2)
  10. 2.2 リングラフィの概要 / p20 (0025.jp2)
  11. 2.3 ポリイミド平坦化法 / p22 (0027.jp2)
  12. 2.4 表面処理によるパターン形成法 / p28 (0033.jp2)
  13. 2.5 2層レジストによるパターン形成法 / p42 (0047.jp2)
  14. 2.6 光導波路エッチング法 / p48 (0053.jp2)
  15. 2.7 まとめ / p58 (0063.jp2)
  16. 文献 / p60 (0065.jp2)
  17. 第3章 広帯域実装技術の開発 / p62 (0067.jp2)
  18. 3.1 まえがき / p62 (0067.jp2)
  19. 3.2 高速実装法 / p62 (0067.jp2)
  20. 3.3 モジュール構成法 / p68 (0073.jp2)
  21. 3.4 まとめ / p72 (0077.jp2)
  22. 文献 / p73 (0078.jp2)
  23. 第4章 電界吸収形光変調器の試作 / p74 (0079.jp2)
  24. 4.1 まえがき / p74 (0079.jp2)
  25. 4.2 光変調器の動作原理 / p75 (0080.jp2)
  26. 4.3 高速光変調器 / p77 (0082.jp2)
  27. 4.4 低駆動電圧光変調器 / p90 (0095.jp2)
  28. 4.5 まとめ / p95 (0100.jp2)
  29. 文献 / p96 (0101.jp2)
  30. 第5章 モノリシック集積化光源の試作 / p99 (0104.jp2)
  31. 5.1 まえがき / p99 (0104.jp2)
  32. 5.2 モノリシック集積化光源 / p100 (0105.jp2)
  33. 5.3 まとめ / p117 (0122.jp2)
  34. 文献 / p118 (0123.jp2)
  35. 第6章 結論 / p120 (0125.jp2)
  36. 謝辞 / p123 (0128.jp2)
  37. 本研究に関する研究論文、講演 / p125 (0130.jp2)
  38. 付録-1 ドライエッチング装置 / p137 (0142.jp2)
  39. 付録-2 半導体光導波路 / p141 (0146.jp2)
  40. 付録-3 4元量子井戸構造 / p148 (0153.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000152560
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001086741
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000316874
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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