LSI加工用短波長高感度レジストに関する研究

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著者

    • 田中, 啓順 タナカ, アキノブ

書誌事項

タイトル

LSI加工用短波長高感度レジストに関する研究

著者名

田中, 啓順

著者別名

タナカ, アキノブ

学位授与大学

東海大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第311号

学位授与年月日

1997-09-22

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 緒論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 超LSIと微細加工技術 / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 レジストの化学 / p3 (0008.jp2)
  5. 1.3 本論文の目的と構成 / p10 (0015.jp2)
  6. 参考文献 / p11 (0016.jp2)
  7. 第2章 シリコーン系ネガ型レジスト(SNR) / p13 (0018.jp2)
  8. 2.1 はじめに / p13 (0018.jp2)
  9. 2.2 シリコン含有高分子の02RIE耐性と材料設計 / p13 (0018.jp2)
  10. 2.3 材料合成と構造 / p14 (0019.jp2)
  11. 2.4 レジスト特性 / p18 (0023.jp2)
  12. 2.5 ナノメータ加工への応用 / p22 (0027.jp2)
  13. 2.6 まとめ / p24 (0029.jp2)
  14. 参考文献 / p27 (0032.jp2)
  15. 第3章 メタクリル化シリコーン系ネガ型レジスト(MSNR) / p28 (0033.jp2)
  16. 3.1 はじめに / p28 (0033.jp2)
  17. 3.2 材料設計と材料合成 / p28 (0033.jp2)
  18. 3.3 レジスト組成と実験方法 / p29 (0034.jp2)
  19. 3.4 レジスト特性 / p32 (0037.jp2)
  20. 3.5 まとめ / p34 (0039.jp2)
  21. 参考文献 / p36 (0041.jp2)
  22. 第4章 シリコーン系ポジ型レジスト(SPP) / p37 (0042.jp2)
  23. 4.1 はじめに / p37 (0042.jp2)
  24. 4.2 アルカリ可溶性ポリマ(APSQ) / p37 (0042.jp2)
  25. 4.3 レジスト特性 / p41 (0046.jp2)
  26. 4.4 イメージリバーサル法によるパターン形成 / p47 (0052.jp2)
  27. 4.5 層間絶縁膜への応用 / p50 (0055.jp2)
  28. 4.6 まとめ / p55 (0060.jp2)
  29. 参考文献 / p56 (0061.jp2)
  30. 第5章 SPPの電子線リソグラフィヘの適用および剥離技術 / p57 (0062.jp2)
  31. 5.1 はじめに / p57 (0062.jp2)
  32. 5.2 SPPイメージリバーサル / p57 (0062.jp2)
  33. 5.3 SPPの剥離 / p66 (0071.jp2)
  34. 5.4 まとめ / p70 (0075.jp2)
  35. 参考文献 / p70 (0075.jp2)
  36. 第6章 化学増幅型シリコーン系ネガ型レジスト(CSNR) / p72 (0077.jp2)
  37. 6.1 はじめに / p72 (0077.jp2)
  38. 6.2 ベースポリマの合成とアルカリ溶解性 / p72 (0077.jp2)
  39. 6.3 レジスト特性 / p78 (0083.jp2)
  40. 6.4 CSNRのレジスト化学 / p82 (0087.jp2)
  41. 6.5 まとめ / p85 (0090.jp2)
  42. 参考文献 / p85 (0090.jp2)
  43. 第7章 化学増幅型ポジレジスト / p86 (0091.jp2)
  44. 7.1 はじめに / p86 (0091.jp2)
  45. 7.2 X線レジスト / p86 (0091.jp2)
  46. 7.3 KrFエキシマレーザ用レジスト / p91 (0096.jp2)
  47. 7.4 酸発生剤の検討 / p94 (0099.jp2)
  48. 7.5 まとめ / p102 (0107.jp2)
  49. 参考文献 / p103 (0108.jp2)
  50. 第8章 総括的結論 / p104 (0109.jp2)
  51. 8.1 得られた成果 / p104 (0109.jp2)
  52. 8.2 レジストの研究課題 / p105 (0110.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000152561
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001086742
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000316875
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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