Synthesis of novel sulfonium salts and application to latent initiator in polymerization 新規スルホニウム塩の合成と重合反応における潜在性開始剤への応用

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著者

    • 濱津, 富三男 ハマズ, フミオ

書誌事項

タイトル

Synthesis of novel sulfonium salts and application to latent initiator in polymerization

タイトル別名

新規スルホニウム塩の合成と重合反応における潜在性開始剤への応用

著者名

濱津, 富三男

著者別名

ハマズ, フミオ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第2943号

学位授与年月日

1996-09-30

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 目次 / (0004.jp2)
  3. 第1章 緒論 / p1 (0007.jp2)
  4. 参考文献 / p12 (0018.jp2)
  5. 第2章 S上にフェノール構造を有するベンジルスルホニウム塩によるエポキシドのカチオン重合 / p14 (0020.jp2)
  6. 2-1 はじめに / p14 (0020.jp2)
  7. 2-2 ベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム塩の合成 / p16 (0022.jp2)
  8. 2-3 ベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム塩を用いたフェニルグリシジルエーテルのカチオン重合 / p21 (0027.jp2)
  9. 2-4 実験の部 / p28 (0034.jp2)
  10. 参考文献 / p33 (0039.jp2)
  11. 第3章 アリールベンジルメチルスルホニウム塩の活性と構造の関係ならびに重合機構 / p34 (0040.jp2)
  12. 3-1 はじめに / p34 (0040.jp2)
  13. 3-2 アリールベンジルおよび4-置換ベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム塩の合成 / p36 (0042.jp2)
  14. 3-3 アリールベンジルメチルスルホニウム塩を用いたフェニルグリシジルエーテルのカチオン重合 / p49 (0055.jp2)
  15. 3-4 4-置換ベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム塩を用いたフェニルグリシジルエーテルのカチオン重合 / p55 (0061.jp2)
  16. 3-5 重合機構 / p58 (0064.jp2)
  17. 3-6 実験の部 / p63 (0069.jp2)
  18. 参考文献 / p70 (0076.jp2)
  19. 第4章 ベンジルスルホニウム塩のカチオン重合開始剤としての高活性化 / p71 (0077.jp2)
  20. 4-1 はじめに / p71 (0077.jp2)
  21. 4-2 1-ナフチルメチルおよび4-メチルベンジル-4-置換フェニルメチルスルホニウム塩の合成 / p73 (0079.jp2)
  22. 4-3 1-ナフチルメチルおよび4-メチルベンジル-4-置換フェニルメチルスルホニウム塩を用いたフェニルグリシジルエーテルのカチオン重合 / p80 (0086.jp2)
  23. 4-4 カチオン重合の開始種 / p86 (0092.jp2)
  24. 4-5 エポキシ樹脂のゲル化 / p90 (0096.jp2)
  25. 4-6 実験の部 / p91 (0097.jp2)
  26. 参考文献 / p95 (0101.jp2)
  27. 第5章 ベンジルスルホニウム塩によるエポキシドの光カチオン重合 / p96 (0102.jp2)
  28. 5-1 はじめに / p96 (0102.jp2)
  29. 5-2 ベンジルスルホニウム塩の紫外吸収特性 / p99 (0105.jp2)
  30. 5-3 ベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム塩を用いたフェニルグリシジルエーテルの紫外線照射下での光カチオン重合 / p103 (0109.jp2)
  31. 5-4 4-置換ベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム塩を用いたフェニルグリシジルエーテルの紫外線照射下での光カチオン重合 / p108 (0114.jp2)
  32. 5-5 4-ニトロベンジル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム塩を用いた太陽光照射下での光カチオン重合 / p110 (0116.jp2)
  33. 5-6 1-ナフチルメチル-4-ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム塩を用いたフェニルグリシジルエーテルの紫外線照射下での光カチオン重合 / p113 (0119.jp2)
  34. 5-7 光重合機構 / p115 (0121.jp2)
  35. 5-8 実験の部 / p123 (0129.jp2)
  36. 参考文献 / p127 (0133.jp2)
  37. 第6章 アリールジメチルスルホニウム塩を用いたエポキシドのカチオン重合 / p128 (0134.jp2)
  38. 6-1 はじめに / p128 (0134.jp2)
  39. 6-2 アリールジメチルスルホニウム塩の合成 / p130 (0136.jp2)
  40. 6-3 アリールジメチルスルホニウム塩を用いたフェニルグリシジルエーテルのカチオン重合 / p140 (0146.jp2)
  41. 6-4 アリールジメチルスルホニウム塩を用いたフェニルグリシジルエーテルの紫外線照射下での光カチオン重合 / p151 (0157.jp2)
  42. 6-5 実験の部 / p154 (0160.jp2)
  43. 参考文献 / p158 (0164.jp2)
  44. 第7章 スルホニウム塩によるエポキシ樹脂の硬化 / p159 (0165.jp2)
  45. 7-1 はじめに / p159 (0165.jp2)
  46. 7-2 熱潜在性硬化触媒としての可能性 / p160 (0166.jp2)
  47. 7-3 光潜在性硬化触媒としての可能性 / p170 (0176.jp2)
  48. 7-4 実験の部 / p172 (0178.jp2)
  49. 参考文献 / p174 (0180.jp2)
  50. 第8章 総括 / p175 (0181.jp2)
  51. 機器一覧 / p179 (0185.jp2)
  52. 発表リスト / p181 (0187.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000153813
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001092827
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000318127
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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