Co/CoO複合磁性薄膜型磁気テープの高記録密度化と高耐久化に関する研究

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著者

    • 吉田, 秀樹 ヨシダ, ヒデキ

書誌事項

タイトル

Co/CoO複合磁性薄膜型磁気テープの高記録密度化と高耐久化に関する研究

著者名

吉田, 秀樹

著者別名

ヨシダ, ヒデキ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第2957号

学位授与年月日

1996-11-30

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 目次 / p1 (0005.jp2)
  3. 第1章 緒論 / p1 (0010.jp2)
  4. 第2章 デジタル映像記録技術の高密度化の動向と課題 / p4 (0013.jp2)
  5. 2.1 まえがき / p4 (0013.jp2)
  6. 2.2 デジタル映像記録技術 / p5 (0014.jp2)
  7. 2.3 高密度磁気記録技術 / p13 (0022.jp2)
  8. 2.4 高性能磁気テープの基本設計 / p20 (0029.jp2)
  9. 2.5 あとがき / p25 (0034.jp2)
  10. 参考文献 / p26 (0035.jp2)
  11. 第3章 入射角連続変化法によるCo/CoO複合磁性薄膜 / p28 (0037.jp2)
  12. 3.1 まえがき / p28 (0037.jp2)
  13. 3.2 入射角連続変化法 / p30 (0039.jp2)
  14. 3.3 電子ビーム蒸着 / p34 (0043.jp2)
  15. 3.4 反応性蒸着 / p48 (0057.jp2)
  16. 3.5 磁性層厚制御 / p51 (0060.jp2)
  17. 3.6 蒸着時の熱解析 / p60 (0069.jp2)
  18. 3.7 あとがき / p69 (0078.jp2)
  19. 参考文献 / p70 (0079.jp2)
  20. 第4章 入射角連続変化膜の磁性 / p72 (0081.jp2)
  21. 4.1 まえがき / p72 (0081.jp2)
  22. 4.2 入射角と結晶磁気異方性 / p74 (0083.jp2)
  23. 4.3 酸素導入の効果 / p84 (0093.jp2)
  24. 4.4 他の蒸着条件の影響 / p95 (0104.jp2)
  25. 4.5 入射角連続変化膜の磁区構造 / p100 (0109.jp2)
  26. 4.6 あとがき / p106 (0115.jp2)
  27. 参考文献 / p107 (0116.jp2)
  28. 第5章 入射角連続変化膜の電磁変換特性 / p109 (0118.jp2)
  29. 5.1 まえがき / p109 (0118.jp2)
  30. 5.2 斜方記録の記録減磁 / p111 (0120.jp2)
  31. 5.3 入射角連続変化膜の電磁変換特性の改良 / p125 (0134.jp2)
  32. 5.4 CNRの記録密度依存性 / p130 (0139.jp2)
  33. 5.5 CNRのトラックピッチ依存性 / p137 (0146.jp2)
  34. 5.6 あとがき / p142 (0151.jp2)
  35. 参考文献 / p143 (0152.jp2)
  36. 第6章 入射角連続変化膜のトライボロジーと信頼性 / p145 (0154.jp2)
  37. 6.1 まえがき / p145 (0154.jp2)
  38. 6.2 保護膜を用いないCVI膜のトライボロジー / p147 (0156.jp2)
  39. 6.3 保護膜を用いないCVI膜の保存性 / p153 (0162.jp2)
  40. 6.4 DLC膜を用いたCVI膜のトライボロジー / p163 (0172.jp2)
  41. 6.5 DLC膜を用いたCVI膜の保存性 / p177 (0186.jp2)
  42. 6.6 あとがき / p185 (0194.jp2)
  43. 参考文献 / p186 (0195.jp2)
  44. 第7章 DVフォーマット用MEテープ / p188 (0197.jp2)
  45. 7.1 まえがき / p188 (0197.jp2)
  46. 7.2 DV用MEテープの周波数特性 / p190 (0199.jp2)
  47. 7.3 DV用MEテープのトラッキング特性 / p199 (0208.jp2)
  48. 7.4 DV用MEテープの波形特性 / p208 (0217.jp2)
  49. 7.5 SNRの見積り / p213 (0222.jp2)
  50. 7.6 DVフォーマットの記録密度 / p224 (0233.jp2)
  51. 7.7 あとがき / p229 (0238.jp2)
  52. 参考文献 / p230 (0239.jp2)
  53. 第8章 将来展望 / p232 (0241.jp2)
  54. 8.1 まえがき / p232 (0241.jp2)
  55. 8.2 高密度記録システム / p233 (0242.jp2)
  56. 8.3 次世代メディアの開発によるビットコストの低減 / p237 (0246.jp2)
  57. 8.4 あとがき / p239 (0248.jp2)
  58. 参考文献 / p240 (0249.jp2)
  59. 第9章 結論 / p241 (0250.jp2)
  60. 謝辞 / p243 (0252.jp2)
  61. 本研究に関する発表論文 / p244 (0253.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000153827
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001092841
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000318141
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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