集積回路用微細アルミニウム配線の高信頼化に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
-
集積回路用微細アルミニウム配線の高信頼化に関する研究
- 著者名
-
鈇田, 博
- 著者別名
-
オノダ, ヒロシ
- 学位授与大学
-
東京工業大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
-
乙第2997号
- 学位授与年月日
-
1997-01-31
注記・抄録
博士論文
目次
- 論文目録 / (0002.jp2)
- 目次 / p1 (0004.jp2)
- 第1章 ｢序論｣ / p1 (0007.jp2)
- 1.1 序 / p1 (0007.jp2)
- 1.2 本研究の背景 / p2 (0008.jp2)
- 1.3 本研究の目的 / p17 (0015.jp2)
- 1.4 本論文の構成と概要 / p20 (0017.jp2)
- 第1章 参考文献 / p24 (0019.jp2)
- 第2章 ｢アルミニウム配線高信頼化研究の現状｣ / p27 (0020.jp2)
- 2.1 序 / p27 (0020.jp2)
- 2.2 Al配線へのSiの添加 / p28 (0021.jp2)
- 2.3 不純物添加によるAl配線の強化 / p37 (0025.jp2)
- 2.4 積層化によるAl配線の強化 / p57 (0035.jp2)
- 2.5 ヴィアホールの信頼性 / p61 (0037.jp2)
- 2.6 結論 / p65 (0039.jp2)
- 補足1.統計的配線寿命分布モデルと実使用条件下での故障率 / p67 (0040.jp2)
- 補足2.エレクトロマイグレーションの基礎概念 / p70 (0042.jp2)
- 第2章 参考文献 / p75 (0044.jp2)
- 第3章 ｢アルミニウムと異種金属との界面の評価｣ / p81 (0047.jp2)
- 3.1 序 / p81 (0047.jp2)
- 3.2 試料の形成と評価 / p83 (0048.jp2)
- 3.3 結果と討論 / p88 (0051.jp2)
- 3.4 結論 / p120 (0067.jp2)
- 第3章 参考文献 / p122 (0068.jp2)
- 第4章 ｢アルミニウム配線における結晶配向性制御の効果｣ / p125 (0069.jp2)
- 4.1 序 / p125 (0069.jp2)
- 4.2 試料の形成と評価 / p126 (0070.jp2)
- 4.3 結果と討論 / p128 (0071.jp2)
- 4.4 結論 / p154 (0084.jp2)
- 第4章 参考文献 / p155 (0084.jp2)
- 第5章 ｢アルミニウム配線における電流バイパス効果｣ / p157 (0085.jp2)
- 5.1 序 / p157 (0085.jp2)
- 5.2 試料の形成と評価 / p159 (0086.jp2)
- 5.3 結果と討論 / p160 (0087.jp2)
- 5.4 結論 / p189 (0101.jp2)
- 第5章 参考文献 / p190 (0102.jp2)
- 第6章 ｢高信頼性アルミニウム積層配線の形成｣ / p193 (0103.jp2)
- 6.1 序 / p193 (0103.jp2)
- 6.2 試料の形成と評価 / p195 (0104.jp2)
- 6.3 結果と討論 / p197 (0105.jp2)
- 6.4 結論 / p252 (0133.jp2)
- 第6章 参考文献 / p254 (0134.jp2)
- 第7章 ｢総括｣ / p259 (0136.jp2)
- 7.1 本研究の成果 / p259 (0136.jp2)
- 7.2 今後の課題と展望 / p265 (0139.jp2)
- 謝辞 / p271 (0142.jp2)
- 本研究の主たる構成論文 / p273 (0143.jp2)
- その他発表論文一覧 / p274 (0144.jp2)