表層イメージングを用いたフォトリソグラフィに関する研究

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著者

    • 松尾, 隆弘 マツオ, タカヒロ

書誌事項

タイトル

表層イメージングを用いたフォトリソグラフィに関する研究

著者名

松尾, 隆弘

著者別名

マツオ, タカヒロ

学位授与大学

大阪府立大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第473号

学位授与年月日

1998-03-31

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 参考文献 / p16 (0013.jp2)
  4. 第1編 シリル化プロセス / p18 (0014.jp2)
  5. 第1章 シリル化プロセスと単層レジストプロセスの比較 / p18 (0014.jp2)
  6. 1.1 緒言 / p18 (0014.jp2)
  7. 1.2 実験によるリソグラフィ特性の比較 / p18 (0014.jp2)
  8. 1.3 シミュレーションによるリソグラフィ特性の比較 / p25 (0017.jp2)
  9. 1.4 結言 / p29 (0019.jp2)
  10. 参考文献 / p29 (0019.jp2)
  11. 第2章 液相シリル化プロセスにおけるシリル化剤の表層拡散機構 / p30 (0020.jp2)
  12. 2.1 緒言 / p30 (0020.jp2)
  13. 2.2 拡散機構概論 / p30 (0020.jp2)
  14. 2.3 ノボラック樹脂中のシリル化剤の拡散機構 / p32 (0021.jp2)
  15. 2.4 ポリビニルフェノール中のシリル化剤の拡散機構 / p47 (0028.jp2)
  16. 2.5 結言 / p57 (0033.jp2)
  17. 参考文献 / p57 (0033.jp2)
  18. 第3章 ArFエキシマレーザ照射によるレジスト膜の光架橋 / p59 (0034.jp2)
  19. 3.1 緒言 / p59 (0034.jp2)
  20. 3.2 実験 / p59 (0034.jp2)
  21. 3.3 結果及び考察 / p59 (0034.jp2)
  22. 3.4 結言 / p63 (0036.jp2)
  23. 参考文献 / p63 (0036.jp2)
  24. 第4章 液相シリル化プロセスのArFエキシマレーザリソグラフィへの応用 / p64 (0037.jp2)
  25. 4.1 緒言 / p64 (0037.jp2)
  26. 4.2 実験 / p64 (0037.jp2)
  27. 4.3 結果及び考察 / p65 (0037.jp2)
  28. 4.4 結言 / p71 (0040.jp2)
  29. 参考文献 / p71 (0040.jp2)
  30. 第2編 表面修飾プロセス / p72 (0041.jp2)
  31. 第1章 表面修飾プロセスの基礎検討 / p72 (0041.jp2)
  32. 1.1 緒言 / p72 (0041.jp2)
  33. 1.2 実験 / p72 (0041.jp2)
  34. 1.3 結果及び考察 / p73 (0041.jp2)
  35. 1.4 結言 / p81 (0045.jp2)
  36. 参考文献 / p81 (0045.jp2)
  37. 第2章 表面修飾プロセスにおける表層ポリシロキサン生成機構 / p82 (0046.jp2)
  38. 2.1 緒言 / p82 (0046.jp2)
  39. 2.2 実験 / p82 (0046.jp2)
  40. 2.3 結果及び考察 / p83 (0046.jp2)
  41. 2.4 結言 / p94 (0052.jp2)
  42. 参考文献 / p94 (0052.jp2)
  43. 第3章 表面修飾プロセスにおけるArFエキシマレーザリソグラフィ用レジストの開発 / p95 (0052.jp2)
  44. 3.1 緒言 / p95 (0052.jp2)
  45. 3.2 ArF露光におけるスルホン酸誘導体の酸発生量子収率 / p95 (0052.jp2)
  46. 3.3 酸発生ユニットとして1,2,3,4-テトラヒドロ-1-ナフチリデンイミノp-スチレンスルホナートを有するレジストの評価 / p98 (0054.jp2)
  47. 3.4 酸発生ユニットとしてプロピリデンイミノp-スチレンスルホナートを有するレジストの開発 / p102 (0056.jp2)
  48. 3.5 酸発生ユニットと極性変化ユニットを有するレジストの開発 / p110 (0060.jp2)
  49. 3.6 結言 / p126 (0068.jp2)
  50. 参考文献 / p127 (0068.jp2)
  51. 結論 / p128 (0069.jp2)
  52. 謝辞 / p130 (0070.jp2)
  53. 研究業績一覧 / p131 (0070.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000154320
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001093325
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000318634
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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