フルオロキノロン系合成抗菌剤による光線過敏性反応に関する研究

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著者

    • 丸谷, 清 マルタニ, キヨシ

書誌事項

タイトル

フルオロキノロン系合成抗菌剤による光線過敏性反応に関する研究

著者名

丸谷, 清

著者別名

マルタニ, キヨシ

学位授与大学

岐阜大学

取得学位

博士 (農学)

学位授与番号

甲第50号

学位授与年月日

1996-03-14

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. 目次 / (0008.jp2)
  3. 第1章 序 / p1 (0011.jp2)
  4. 第2章 フルオロキノロン系合成抗菌剤の光安定性と光毒性誘導能に及ぼす8位側鎖の影響 / p15 (0025.jp2)
  5. 第1項 緒言 / p15 (0025.jp2)
  6. 第2項 実験材料および方法 / p15 (0025.jp2)
  7. 第3項 結果 / p27 (0037.jp2)
  8. 第4項 考察 / p43 (0053.jp2)
  9. 第5項 要約 / p50 (0060.jp2)
  10. 第3章 フルオロキノロン系抗菌剤の経口投与により生じる光線過敏症への光アレルギー反応の関与 / p53 (0063.jp2)
  11. 第1項 結論 / p53 (0063.jp2)
  12. 第2項 実験材料および方法 / p54 (0064.jp2)
  13. 第3項 結果 / p63 (0073.jp2)
  14. 第4項 考察 / p70 (0080.jp2)
  15. 第5項 要約 / p74 (0084.jp2)
  16. 第4章 総括 / p77 (0087.jp2)
  17. 謝辞 / p82 (0092.jp2)
  18. 文献 / p83 (0093.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000154635
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001093611
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000318949
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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