弾性表面波デバイス用高耐電力電極膜に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
-
弾性表面波デバイス用高耐電力電極膜に関する研究
- 著者名
-
木村, 悟利
- 著者別名
-
キムラ, ノリトシ
- 学位授与大学
-
東北大学
- 取得学位
-
博士(工学)
- 学位授与番号
-
甲第6905号
- 学位授与年月日
-
1999-03-25
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 緒論 / p1 (0006.jp2)
- 1.1 研究の背景 / p1 (0006.jp2)
- 1.2 研究の目的 / p5 (0010.jp2)
- 1.3 本論文の構成 / p6 (0011.jp2)
- 第2章 二重モード型SAWフィルタの耐電力性評価 / p8 (0013.jp2)
- 2.1 まえがき / p8 (0013.jp2)
- 2.2 二重モード型SAWフィルタの試作 / p9 (0014.jp2)
- 2.3 耐電力性評価方法 / p15 (0020.jp2)
- 2.4 素子寿命の周波数依存性 / p17 (0022.jp2)
- 2.5 周囲温度および印加電力に対する素子寿命 / p21 (0026.jp2)
- 2.6 電力印加時の電極表面温度観察 / p26 (0031.jp2)
- 2.7 むすび / p46 (0051.jp2)
- 第3章 CU偏析を利用したAl-CU合金電極膜の高耐電力化 / p47 (0052.jp2)
- 3.1 まえがき / p47 (0052.jp2)
- 3.2 耐電力試験後の電極膜表面観察 / p48 (0053.jp2)
- 3.3 熱処理による素子寿命の変化 / p52 (0057.jp2)
- 3.4 熱処理による結晶粒界へのCu偏析 / p55 (0060.jp2)
- 3.5 熱処理による結晶粒径および膜応力の変化 / p58 (0063.jp2)
- 3.6 考察 / p61 (0066.jp2)
- 3.7 むすび / p62 (0067.jp2)
- 第4章 高融点金属を添加したAl合金電極膜 / p64 (0069.jp2)
- 4.1 まえがき / p64 (0069.jp2)
- 4.2 成膜方法 / p64 (0069.jp2)
- 4.3 Al-Ta合金電極膜 / p65 (0070.jp2)
- 4.4 Al-W合金電極膜 / p74 (0079.jp2)
- 4.5 ウィスカー発生について / p78 (0083.jp2)
- 4.6 むすび / p79 (0084.jp2)
- 第5章 Tiバッファ一層を用いた単結晶Al電極膜 / p80 (0085.jp2)
- 5.1 まえがき / p80 (0085.jp2)
- 5.2 成膜方法 / p81 (0086.jp2)
- 5.3 Tiバッファ一層上に作製したAl膜の性質 / p83 (0088.jp2)
- 5.4 64°Y-X LiNbO₃上に作製したTi膜の性質 / p89 (0094.jp2)
- 5.5 他基板上におけるTiバッファ一層上のAl膜の性質 / p95 (0100.jp2)
- 5.6 エピタキシャル関係に関する考察 / p98 (0103.jp2)
- 5.7 単結晶Al/Ti電極膜SAWフィルタの特性 / p102 (0107.jp2)
- 5.8 各電極膜における耐電力性評価の総括 / p105 (0110.jp2)
- 5.9 むすび / p109 (0114.jp2)
- 第6章 結論 / p110 (0115.jp2)
- 謝辞 / p113 (0118.jp2)
- 本研究に関する公表論文 / p115 (0120.jp2)
- 参考文献 / p119 (0124.jp2)
- 付録 / p127 (0132.jp2)