可変成形型電子ビーム描画装置の高性能化に関する研究

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著者

    • 齋藤, 賢一 サイトウ, ケンイチ

書誌事項

タイトル

可変成形型電子ビーム描画装置の高性能化に関する研究

著者名

齋藤, 賢一

著者別名

サイトウ, ケンイチ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

乙第7511号

学位授与年月日

1998-07-08

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0004.jp2)
  3. 1.1 背景 / p1 (0004.jp2)
  4. 1.2 本研究の目的 / p5 (0006.jp2)
  5. 1.3 本論文の構成 / p6 (0007.jp2)
  6. 参考文献 / p7 (0007.jp2)
  7. 第2章 高精度電子軌道追跡法の開発 / p15 (0011.jp2)
  8. 2.1 はじめに / p15 (0011.jp2)
  9. 2.2 計算対象、及び電子軌道の定義 / p15 (0011.jp2)
  10. 2.3 電子軌道計算方法の高精度化 / p16 (0012.jp2)
  11. 2.4 電子軌道追跡プログラムの開発 / p20 (0014.jp2)
  12. 2.5 まとめ / p25 (0016.jp2)
  13. 参考文献 / p26 (0017.jp2)
  14. 第3章 100kV熱電子放出電子銃の開発 / p41 (0024.jp2)
  15. 3.2 100kV熱電子放出電子銃設計 / p42 (0025.jp2)
  16. 3.3 100kV熱電子放出電子銃の実験的検討 / p46 (0027.jp2)
  17. 3.4 まとめ / p48 (0028.jp2)
  18. 参考文献 / p48 (0028.jp2)
  19. 第4章 EB-X2電子光学系の設計 / p70 (0039.jp2)
  20. 4.1 はじめに / p70 (0039.jp2)
  21. 4.2 目標性能 / p70 (0039.jp2)
  22. 4.3 電子光学系の設計 / p71 (0039.jp2)
  23. 4.4 まとめ / p78 (0043.jp2)
  24. 参考文献 / p79 (0043.jp2)
  25. 第5章 EB-X2電子光学鏡筒の立ち上げ、評価 / p93 (0050.jp2)
  26. 5.1 はじめに / p93 (0050.jp2)
  27. 5.2 電子光学鏡筒の製作 / p93 (0050.jp2)
  28. 5.3 電子光学鏡筒の立ち上げ / p94 (0051.jp2)
  29. 5.4 ビーム特性評価 / p97 (0052.jp2)
  30. 5.5 まとめ / p99 (0053.jp2)
  31. 第6章 結論 / p119 (0063.jp2)
  32. 謝辞 / p122 (0065.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000171107
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000171381
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000335421
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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