磁気テープ用薄膜ヘッドの構造とコア用磁性材料の研究

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著者

    • 大森, 廣之 オオモリ, ヒロユキ

書誌事項

タイトル

磁気テープ用薄膜ヘッドの構造とコア用磁性材料の研究

著者名

大森, 廣之

著者別名

オオモリ, ヒロユキ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

乙第7629号

学位授与年月日

1999-01-13

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1-1 緒言 / p1 (0006.jp2)
  4. 1-2 磁気記録の原理と磁気ヘッドの役割 / p3 (0007.jp2)
  5. 1-3 各種磁気ヘッドの用途と特徴 / p11 (0011.jp2)
  6. 1-4 磁気ヘッド刑軟磁性材料 / p17 (0014.jp2)
  7. 1-5 磁気ヘッドの作製工程 / p24 (0018.jp2)
  8. 1-6 次世代のデジタル記録装置用磁気ヘッド / p29 (0020.jp2)
  9. 1-7 本研究の目的 / p35 (0023.jp2)
  10. 第2章 磁気テープ用薄膜ヘッドの可能性 / p37 (0025.jp2)
  11. 2-1 緒言 / p37 (0025.jp2)
  12. 2-2 薄膜ヘッドのテープ磁気記録への応用の問題点 / p37 (0025.jp2)
  13. 2-3 磁気ヘッドの小型化の効果 / p41 (0027.jp2)
  14. 2-4 磁気テープ用薄膜ヘッドの設計 / p49 (0031.jp2)
  15. 2-5 小括 / p51 (0032.jp2)
  16. 第3章 磁気テープ用薄膜ヘッドの作製 / p53 (0034.jp2)
  17. 3-1 緒言 / p53 (0034.jp2)
  18. 3-2 ヘッド作製工程と材料の選択 / p54 (0035.jp2)
  19. 3-3 軟磁性材料の作製と特性評価方法 / p63 (0039.jp2)
  20. 3-4 記録再生特性の評価方法 / p66 (0041.jp2)
  21. 3-5 ETFヘッドの電磁変換特性 / p71 (0043.jp2)
  22. 3-6 考察 / p79 (0047.jp2)
  23. 3-7 小括 / p81 (0048.jp2)
  24. 第4章 ETFヘッドの記録再生特性の改善 / p83 (0050.jp2)
  25. 4-1 緒言 / p83 (0050.jp2)
  26. 4-2 センダスト膜の結晶配向と軟磁気特性 / p83 (0050.jp2)
  27. 4-3 磁性膜の軟磁性改善によるETFヘッドの特性改善 / p86 (0052.jp2)
  28. 4-4 磁性膜の積層化による高周波特性改善 / p92 (0055.jp2)
  29. 4-5 磁性膜の積層化が記録に及ぼす影響 / p95 (0056.jp2)
  30. 4-6 ETFヘッドのデジタルVTRへの搭載と測定 / p109 (0063.jp2)
  31. 4-7 小括 / p111 (0064.jp2)
  32. 第5章 高飽和磁束密度材料のETFヘッドへの応用検討 / p113 (0066.jp2)
  33. 5-1 緒言 / p113 (0066.jp2)
  34. 5-2 FeRuGaSi材料の応用検討と問題点 / p113 (0066.jp2)
  35. 5-3 FeTaN,FeHfN材料の応用検討と問題点 / p119 (0069.jp2)
  36. 5-4 ETFヘッドに必要とされる材料の特性 / p133 (0076.jp2)
  37. 5-5 小括 / p138 (0079.jp2)
  38. 第6章 ETFヘッドに適した軟磁性材料の探索 / p139 (0080.jp2)
  39. 6-1 緒言 / p139 (0080.jp2)
  40. 6-2 FeAlSi,FeRuGaSiに非晶質化元素を添加した膜の検討 / p139 (0080.jp2)
  41. 6-3 小括 / p154 (0088.jp2)
  42. 第7章 FeRuGaSi-Hf膜を用いたETFヘッド / p159 (0091.jp2)
  43. 7-1 緒言 / p159 (0091.jp2)
  44. 7-2 傾斜面に成膜したFeRuGaSi-Hf膜の諸特性 / p159 (0091.jp2)
  45. 7-3 FeRuGaSi-Hf膜を用いたETFヘッドの作製と測定 / p162 (0093.jp2)
  46. 7-4 考察 / p168 (0096.jp2)
  47. 7-5 小括 / p170 (0097.jp2)
  48. 第8章 総括 / p171 (0098.jp2)
  49. 補遺 / p173 (0100.jp2)
  50. A-1 窒素添加によるCo基非晶質材料の構造変化 / p173 (0100.jp2)
  51. A-2 FeTaNとガラスとの反応防止の検討 / p175 (0101.jp2)
  52. 参考文献 / p183 (0106.jp2)
  53. 謝辞 / p195 (0113.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000171225
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000171499
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000335539
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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