熱CVDに関する反応工学的研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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熱CVDに関する反応工学的研究
- 著者名
-
金, 炳勲
- 著者別名
-
キム, ピョンフン
- 学位授与大学
-
九州大学
- 取得学位
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博士(工学)
- 学位授与番号
-
甲第4853号
- 学位授与年月日
-
1999-03-25
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / (0003.jp2)
- 第1章 緒論 / p1 (0005.jp2)
- 1.1 本研究の背景及び目的 / p1 (0005.jp2)
- 1.2 本論文の構成 / p12 (0016.jp2)
- 第2章 CVDのモデル化とシミュレーション / p13 (0017.jp2)
- 2.1 研究の概要 / p13 (0017.jp2)
- 2.2 反応のモデル化 / p14 (0018.jp2)
- 2.3 一次反応系の場合の反応解析法 / p16 (0020.jp2)
- 2.4 非線形反応系の場合の反応解析法の提案 / p28 (0032.jp2)
- 2.5 まとめ / p36 (0040.jp2)
- 第3章 有機シランを用いるSiO₂薄膜の熱LPCVDの成膜実験と反応解析 / p37 (0041.jp2)
- 3.1 研究の概要 / p37 (0041.jp2)
- 3.2 成膜実験 / p39 (0043.jp2)
- 3.3 実験結果及び分析結果 / p45 (0049.jp2)
- 3.4 成膜機構の考察とモデル化 / p75 (0079.jp2)
- 3.5 計算結果 / p76 (0080.jp2)
- 3.6 マスフィルター質量分析器による分析結果 / p78 (0082.jp2)
- 3.7 重合反応モデルの検討 / p82 (0086.jp2)
- 3.8 まとめ / p84 (0088.jp2)
- 第4章 タングステン熱LPCVDの成膜実験と反応解析 / p85 (0089.jp2)
- 4.1 研究の概要 / p85 (0089.jp2)
- 4.2 表面反応のモデル化 / p87 (0091.jp2)
- 4.3 成膜実験 / p90 (0094.jp2)
- 4.4 実験結果及び解析 / p94 (0098.jp2)
- 4.5 まとめ / p125 (0129.jp2)
- 第5章 総括 / p126 (0130.jp2)
- 使用記号 / p128 (0132.jp2)
- 参考文献 / p131 (0135.jp2)