熱CVDに関する反応工学的研究

この論文をさがす

著者

    • 金, 炳勲 キム, ピョンフン

書誌事項

タイトル

熱CVDに関する反応工学的研究

著者名

金, 炳勲

著者別名

キム, ピョンフン

学位授与大学

九州大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第4853号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 緒論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 本研究の背景及び目的 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 本論文の構成 / p12 (0016.jp2)
  5. 第2章 CVDのモデル化とシミュレーション / p13 (0017.jp2)
  6. 2.1 研究の概要 / p13 (0017.jp2)
  7. 2.2 反応のモデル化 / p14 (0018.jp2)
  8. 2.3 一次反応系の場合の反応解析法 / p16 (0020.jp2)
  9. 2.4 非線形反応系の場合の反応解析法の提案 / p28 (0032.jp2)
  10. 2.5 まとめ / p36 (0040.jp2)
  11. 第3章 有機シランを用いるSiO₂薄膜の熱LPCVDの成膜実験と反応解析 / p37 (0041.jp2)
  12. 3.1 研究の概要 / p37 (0041.jp2)
  13. 3.2 成膜実験 / p39 (0043.jp2)
  14. 3.3 実験結果及び分析結果 / p45 (0049.jp2)
  15. 3.4 成膜機構の考察とモデル化 / p75 (0079.jp2)
  16. 3.5 計算結果 / p76 (0080.jp2)
  17. 3.6 マスフィルター質量分析器による分析結果 / p78 (0082.jp2)
  18. 3.7 重合反応モデルの検討 / p82 (0086.jp2)
  19. 3.8 まとめ / p84 (0088.jp2)
  20. 第4章 タングステン熱LPCVDの成膜実験と反応解析 / p85 (0089.jp2)
  21. 4.1 研究の概要 / p85 (0089.jp2)
  22. 4.2 表面反応のモデル化 / p87 (0091.jp2)
  23. 4.3 成膜実験 / p90 (0094.jp2)
  24. 4.4 実験結果及び解析 / p94 (0098.jp2)
  25. 4.5 まとめ / p125 (0129.jp2)
  26. 第5章 総括 / p126 (0130.jp2)
  27. 使用記号 / p128 (0132.jp2)
  28. 参考文献 / p131 (0135.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000171829
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000172103
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000336143
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ