触媒抗体の作製、およびその触媒反応の解析 : 基質およびハプテンの構造が触媒活性に及ぼす影響に関する研究

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著者

    • 和田, 裕美子 ワダ, ユミコ

書誌事項

タイトル

触媒抗体の作製、およびその触媒反応の解析 : 基質およびハプテンの構造が触媒活性に及ぼす影響に関する研究

著者名

和田, 裕美子

著者別名

ワダ, ユミコ

学位授与大学

北海道大学

取得学位

博士(理学)

学位授与番号

乙第5431号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 要旨 / p1 (0006.jp2)
  3. 緒言 / p3 (0008.jp2)
  4. 第1章 触媒抗体の作成および抗体の選定(スクリーニング) / p4 (0009.jp2)
  5. 第1節 小序論 / p4 (0009.jp2)
  6. 第2節 ハプテン(免疫原)の設計と合成 / p5 (0010.jp2)
  7. 第3節 免疫原の作製、免疫と細胞融合 / p8 (0013.jp2)
  8. 第4節 ハプテンの部分構造に対する結合特異性を反映したスクリーニング / p11 (0016.jp2)
  9. 第5節 ハプテン認識能と触媒能の相関性の解析 / p14 (0019.jp2)
  10. 第6節 マウス腹腔中での大量培養と抗体精製 / p16 (0021.jp2)
  11. 第2章 触媒能の確認と反応速度論による解析 / p19 (0024.jp2)
  12. 第1節 小序論 / p19 (0024.jp2)
  13. 第2節 パラニトロカーボネート体の合成とその加水分解反応での精製抗体の触媒能 / p20 (0025.jp2)
  14. 第3節 ハプテンによる触媒反応阻害 / p22 (0027.jp2)
  15. 第4節 ミカエリスーメンテンによる速度論量 / p25 (0030.jp2)
  16. 第5節 触媒反応のpH依存性 / p27 (0032.jp2)
  17. 第3章 4A1触媒抗体の基質特異性 / p29 (0034.jp2)
  18. 第1節 小序論 / p29 (0034.jp2)
  19. 第2節 触媒抗体による開裂基の認識 / p30 (0035.jp2)
  20. 第3節 パラニトロフェノキシ基の認識 / p33 (0038.jp2)
  21. 第4節 キャリアー蛋白連結基に相当する部分の認識 / p35 (0040.jp2)
  22. 第5節 光学異性体への特異性 / p38 (0043.jp2)
  23. 第6節 遷移状態アナログの合成とそれらの触媒抗体への熱力学的親和性の解析 / p41 (0046.jp2)
  24. 第7章 4A1触媒抗体が高い触媒活性を示す基質の構造要因 / p44 (0049.jp2)
  25. 第8章 章のまとめ / p46 (0051.jp2)
  26. 第4章 反応中間体(アシル抗体)の検出 / p47 (0052.jp2)
  27. 第1節 小序論 / p47 (0052.jp2)
  28. 第2節 基質選択的な触媒抗体の不活化 / p48 (0053.jp2)
  29. 第3節 高pH処理による活性の回復と反応液中に溶出したフラグメントの定量 / p51 (0056.jp2)
  30. 第4節 600MHz¹³C-NMRによる触媒抗体に共有結合したフラグメントの検出 / p54 (0059.jp2)
  31. 第5節 章のまとめ / p56 (0061.jp2)
  32. 第5章 化学修飾を用いた基質結合部位の解析 / p57 (0062.jp2)
  33. 第1節 小序論 / p57 (0062.jp2)
  34. 第2節 抗体のアルギニン修飾による基質特異性の変化 / p58 (0063.jp2)
  35. 第3節 結合部位近傍の化学修飾に対する特異的な保護 / p60 (0065.jp2)
  36. 第4節 章のまとめ / p62 (0067.jp2)
  37. 第6章 アミノ酸解析と3次元構造の推定 / p63 (0068.jp2)
  38. 第1節 小序論 / p63 (0068.jp2)
  39. 第2節 アミノ酸配列解析 / p64 (0069.jp2)
  40. 第3節 コンピューターによる可変領域の3次元モデル / p67 (0072.jp2)
  41. 第4節 ¹⁴C標識を用いた修飾効率測定と修飾残基の推定 / p70 (0075.jp2)
  42. 第7章 4A1触媒抗体による加水分解反応の機序解析 / p72 (0077.jp2)
  43. 第1節 4A1抗体の触媒反応機序 / p72 (0077.jp2)
  44. 第2節 アシル化および脱アシル化反応に見られる置換基の効果 / p74 (0079.jp2)
  45. 総括と展望 / p76 (0081.jp2)
  46. 謝辞 / p78 (0083.jp2)
  47. 参考文献 / p79 (0084.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000172468
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000172743
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000336782
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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