レーザー誘起蛍光法による高密度フロロカーボンプラズマ中の中性ラジカル測定

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著者

    • 鈴木, 千尋 スズキ, チヒロ

書誌事項

タイトル

レーザー誘起蛍光法による高密度フロロカーボンプラズマ中の中性ラジカル測定

著者名

鈴木, 千尋

著者別名

スズキ, チヒロ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第4283号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

名古屋大学博士学位論文 学位の種類:博士(工学) (課程) 学位授与年月日:平成11年3月25日

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p3 (0004.jp2)
  3. 1.1 酸化膜ドライエッチング技術の現状と課題 / p3 (0004.jp2)
  4. 1.2 中性ラジカル診断技術の現状 / p7 (0006.jp2)
  5. 1.3 ヘリコン波放電プラズマにおけるLIF測定の意義 / p10 (0008.jp2)
  6. 1.4 本研究の目的および本論文の構成 / p13 (0009.jp2)
  7. 第2章 測定原理および実験装置 / p15 (0010.jp2)
  8. 2.1 レーザー誘起蛍光法の測定原理 / p15 (0010.jp2)
  9. 2.2 実験装置の概要 / p19 (0012.jp2)
  10. 2.3 CFおよびCF₂の励起・蛍光スペクトル / p24 (0015.jp2)
  11. 2.4 C₂ラジカルのエネルギー準位構造とLIF測定 / p29 (0017.jp2)
  12. 第3章 ラジカル密度の絶対値較正 / p33 (0019.jp2)
  13. 3.1 LIFの絶対値較正 / p33 (0019.jp2)
  14. 3.2 CFラジカル密度の較正 / p35 (0020.jp2)
  15. 3.3 CF₂ラジカル密度の較正 / p40 (0023.jp2)
  16. 第4章 CF₄プラズマ中のラジカルの挙動 / p44 (0025.jp2)
  17. 4.1 ラジカル密度のホロー型分布 / p44 (0025.jp2)
  18. 4.2 アフターグローにおける挙動 / p49 (0027.jp2)
  19. 4.3 連続放電との比較 / p52 (0029.jp2)
  20. 4.4 レート方程式に基づく考察 / p52 (0029.jp2)
  21. 4.5 ラジカルの寿命測定 / p56 (0031.jp2)
  22. 4.6 ラジカルの損失過程の評価 / p58 (0032.jp2)
  23. 4.7 ホロー型分布の維持機構 / p62 (0034.jp2)
  24. 第5章 ラジカル密度に対する表面過程の影響 / p66 (0036.jp2)
  25. 5.1 C₄F₈プラズマの特性 / p66 (0036.jp2)
  26. 5.2 C₄F₈プラズマ中におけるCFおよびCF₂ラジカルの挙動 / p67 (0036.jp2)
  27. 5.3 表面生成フラックスの評価 / p69 (0037.jp2)
  28. 5.4 CF₄プラズマとの比較 / p74 (0040.jp2)
  29. 5.5 C₄F₈プラズマ中における堆積膜の前駆体 / p76 (0041.jp2)
  30. 第6章 C₄F₈プラズマのアフターグローにおけるCFおよびCF₂ラジカルの挙動 / p78 (0042.jp2)
  31. 6.1 アフターグローにおける典型的なラジカルの挙動 / p78 (0042.jp2)
  32. 6.2 CFとCF₂の挙動の関連性 / p80 (0043.jp2)
  33. 6.3 CF₂密度の二次的な減哀過程 / p86 (0046.jp2)
  34. 第7章 C₂ラジカルの挙動 / p89 (0047.jp2)
  35. 7.1 C₄F₈プラズマの発光スペクトル / p89 (0047.jp2)
  36. 7.2 C₂ラジカルの発光強度の経時変化 / p91 (0048.jp2)
  37. 7.3 C₂ラジカルの一重項と三重項の比較 / p94 (0050.jp2)
  38. 7.4 C₂ラジカル密度と堆積膜 / p98 (0052.jp2)
  39. 7.5 アフターグローにおけるC₂の損失過程 / p100 (0053.jp2)
  40. 第8章 結論 / p104 (0055.jp2)
  41. 8.1 本研究のまとめ / p104 (0055.jp2)
  42. 8.2 今後の課題と展望 / p106 (0056.jp2)
  43. 付録A 非飽和の場合のLIFに関するレート方程式の解 / p111 (0058.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000172986
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000173262
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000337300
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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