超解像技術と超高解像レジストを用いた光リソグラフィー技術に関する研究 cho kaizo gijutsu to cho kokaizo rejisuto o mochiita hikari risogurafi gijutsu ni kansuru kenkyu
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Bibliographic Information
- Title
-
超解像技術と超高解像レジストを用いた光リソグラフィー技術に関する研究
- Other Title
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cho kaizo gijutsu to cho kokaizo rejisuto o mochiita hikari risogurafi gijutsu ni kansuru kenkyu
- Author
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加門, 和也
- Author(Another name)
-
カモン, カズヤ
- University
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早稲田大学
- Types of degree
-
博士(工学)
- Grant ID
-
乙第1421号
- Degree year
-
1999-02-04
Note and Description
博士論文
制度:新 ; 文部省報告番号:乙1421号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:1999-02-4 ; 早大学位記番号:新2746 ; 理工学図書館請求番号:2308
Table of Contents
- 目次 / (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0007.jp2)
- 1.1 大規模集積回路の微細化 / p1 (0007.jp2)
- 1.2 リソグラフィー技術の光展 / p1 (0007.jp2)
- 1.3 光リソグラフィーの特徴 / p3 (0008.jp2)
- 1.4 光リソグラフィー技術の限界 / p6 (0010.jp2)
- 1.5 結論および本論文の概要 / p6 (0010.jp2)
- 第1章の参考文献 / p10 (0012.jp2)
- 第2章 光リソグラフィー技術の概論 / p11 (0012.jp2)
- 2.1 緒言 / p11 (0012.jp2)
- 2.2 部分コヒーレント照明の結像論 / p12 (0013.jp2)
- 2.3 結像性能 / p16 (0015.jp2)
- 2.4 光転写技術の今後 / p25 (0019.jp2)
- 2.5 超解像技術 / p26 (0020.jp2)
- 2.6 レジスト / p30 (0022.jp2)
- 2.7 まとめ / p35 (0024.jp2)
- 2.8 結言 / p35 (0024.jp2)
- 第2章の参考文献 / p37 (0025.jp2)
- 第3章 リソグラフィーシミュレーションに関する研究 / p41 (0027.jp2)
- 3.1 緒言 / p41 (0027.jp2)
- 3.2 背景 / p41 (0027.jp2)
- 3.3 光学像分布のモデル / p42 (0028.jp2)
- 3.4 計算例 / p44 (0029.jp2)
- 3.5 結言 / p51 (0032.jp2)
- 第3章の参考文献 / p52 (0033.jp2)
- 第4章 変形照明法を用いた超解像技術に関する研究 / p55 (0034.jp2)
- 4.1 緒言 / p55 (0034.jp2)
- 4.2 輪帯照明法の評価 / p55 (0034.jp2)
- 4.3 変形照明法への拡張 / p68 (0041.jp2)
- 4.4 変形照明法と位相シフト法の組み合わせ / p78 (0046.jp2)
- 4.5 ハーフトーン照明法の評価 / p90 (0052.jp2)
- 4.6 変形照明法と瞳フィルター法の組み合わせ / p102 (0058.jp2)
- 4.7 結言 / p108 (0061.jp2)
- 第4章の参考文献 / p110 (0062.jp2)
- 第5章 次世代超解像技術に関する研究 / p111 (0062.jp2)
- 5.1 緒言 / p111 (0062.jp2)
- 5.2 次世代超解像技術の提案 / p111 (0062.jp2)
- 5.3 新超解像技術の実験による評価 / p127 (0070.jp2)
- 5.4 新超解像技術による光近接効果の抑制 / p134 (0074.jp2)
- 5.5 新光学系とハーフトーンマスクとの組み合わせ / p146 (0080.jp2)
- 5.6 結言 / p156 (0085.jp2)
- 第5章の参考文献 / p157 (0085.jp2)
- 第6章 パタン補正による転写精度向上法に関する研究 / p158 (0086.jp2)
- 6.1 緒言 / p158 (0086.jp2)
- 6.2 光近接補正システムの開発 / p158 (0086.jp2)
- 6.3 レジストプロセスを考慮した光近接補正 / p169 (0091.jp2)
- 6.4 2次光源形状依存性を考慮した光近補正 / p178 (0096.jp2)
- 6.5 EB+光近接効果 / p185 (0099.jp2)
- 6.6 光近接効果とEB近接効果を考慮した寸法コントロール / p192 (0103.jp2)
- 6.7 収差を考慮した光近説補正 / p198 (0106.jp2)
- 6.8 結言 / p206 (0110.jp2)
- 第6章の参考文献 / p207 (0110.jp2)
- 第7章 レジストプロセスモデルに関する研究 / p209 (0111.jp2)
- 7.1 緒言 / p209 (0111.jp2)
- 7.2 化学増幅型レジストにおける酸や反応生成物の分布 / p209 (0111.jp2)
- 7.3 パーコレ―ション理論を用いたT-top形成シミュレーション / p217 (0115.jp2)
- 7.4 クラスター形成過程と現象特性 / p226 (0120.jp2)
- 7.5 結言 / p234 (0124.jp2)
- 第7章の参考文献 / p235 (0124.jp2)
- 第8章 総論 / p236 (0125.jp2)
- 謝辞 / p240 (0127.jp2)
- 本論文に関する著者発表論文 / p241 (0127.jp2)
- 本論文に関しない著者発表論文 / p242 (0128.jp2)
- 国際学会講演 / p243 (0128.jp2)
- 国内学会講演 / p247 (0130.jp2)
- 特許 / p252 (0133.jp2)
