YBa[2]Cu[4]O[8]酸化物超電導体のスパッタリング法とその場アニールによる薄膜成長の研究 waibieitsushiyufooeito sankabutsu chodendotai no supattaringuho to sono ba aniru ni yoru hakumaku seicho no kenkyu
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著者
書誌事項
- タイトル
-
YBa[2]Cu[4]O[8]酸化物超電導体のスパッタリング法とその場アニールによる薄膜成長の研究
- タイトル別名
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waibieitsushiyufooeito sankabutsu chodendotai no supattaringuho to sono ba aniru ni yoru hakumaku seicho no kenkyu
- 著者名
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吉田, 幸久
- 著者別名
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ヨシダ, ユキヒサ
- 学位授与大学
-
早稲田大学
- 取得学位
-
博士(工学)
- 学位授与番号
-
乙第1462号
- 学位授与年月日
-
1999-03-04
注記・抄録
博士論文
制度:新 ; 文部省報告番号:乙1462号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:1999-03-4 ; 早大学位記番号:新2836 ; 理工学図書館請求番号:2382
目次
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0004.jp2)
- 1.1 本研究の背景 / p1 (0004.jp2)
- 1.2 本研究の目的と意義 / p14 (0011.jp2)
- 1.3 本論文の構成 / p16 (0012.jp2)
- (第1章の参考文献) / p17 (0012.jp2)
- 第2章 ハイブリッドプラズマ･スパッタ法によるa軸配向YBa₂Cu₃O₇₋₈薄膜作製と基板バイアス効果 / p20 (0014.jp2)
- 2.1 はじめに / p20 (0014.jp2)
- 2.2 実験方法 / p21 (0015.jp2)
- 2.3 実験結果 / p25 (0017.jp2)
- 2.4 考察 / p32 (0020.jp2)
- 2.5 本章のまとめ / p34 (0021.jp2)
- (第2章の参考文献) / p34 (0021.jp2)
- 第3章 ハイブリッドプラズマ･スパッタ法による124組成薄膜のその場成長 / p36 (0022.jp2)
- 3.1 はじめに / p36 (0022.jp2)
- 3.2 成膜方法 / p36 (0022.jp2)
- 3.3 実験結果 / p40 (0024.jp2)
- 3.4 考察 / p50 (0029.jp2)
- 3.5 本章のまとめ / p52 (0030.jp2)
- (第3章の参考文献) / p52 (0030.jp2)
- 第4章 Y-Ba-Cu-O前駆体のその場アニールによるYBa₂Cu₄O₈薄膜の結晶化 / p54 (0031.jp2)
- 4.1 はじめに / p54 (0031.jp2)
- 4.2 成膜方法 / p55 (0032.jp2)
- 4.3 ラマン散乱分光法 / p56 (0032.jp2)
- 4.4 前駆体結晶構造の効果 / p59 (0034.jp2)
- 4.5 前駆体組成比の効果 / p73 (0041.jp2)
- 4.6 その場アニールにおける酸素分圧と温度の効果 / p83 (0046.jp2)
- 4.7 本章のまとめ / p93 (0051.jp2)
- (第4章の参考文献) / p94 (0051.jp2)
- 第5章 [化学式]とYBa₂Cu₄O₈薄膜の熱的安定性の評価 / p96 (0052.jp2)
- 5.1 はじめに / p96 (0052.jp2)
- 5.2 実験方法 / p96 (0052.jp2)
- 5.3 [化学式]薄膜の酸素分圧と温度に対する安定性 / p96 (0052.jp2)
- 5.4 YBa₂Cu₄O₈薄膜の酸素分圧と温度に対する安定性 / p101 (0055.jp2)
- 5.5 YBa₂Cu₄0₈薄膜の低酸素分圧での熱平衡安定領域 / p104 (0056.jp2)
- 5.6 本章のまとめ / p106 (0057.jp2)
- (第5章の参考文献) / p106 (0057.jp2)
- 第6章 総括 / p108 (0058.jp2)
- (付録)Y-Ba-Cu-O系超電導体のラマン分光法による判別 / p111 (0060.jp2)
- (A.1)[化学式]相のラマンスペクトル / p111 (0060.jp2)
- (A.2)YBa₂Cu₄O₈相と[化学式]相のラマンスペクトル / p114 (0061.jp2)
- (付録の参考文献) / p121 (0065.jp2)
- 謝辞 / p122 (0065.jp2)
- 研究業績 / p123 (0066.jp2)
