強誘電体の共振効果を用いた制御機能を持つ固体触媒の研究

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    • 齊藤, 信雄 サイトウ, ノブオ

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Title

強誘電体の共振効果を用いた制御機能を持つ固体触媒の研究

Author

齊藤, 信雄

Author(Another name)

サイトウ, ノブオ

University

長岡技術科学大学

Types of degree

博士(工学)

Grant ID

甲第190号

Degree year

1999-03-25

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  2. 第1節 触媒発展の歴史および課題 / p1 (0005.jp2)
  3. 第2節 従来の触媒機能制御技術と問題点 / p4 (0007.jp2)
  4. 第3節 本研究のねらい / p7 (0008.jp2)
  5. 第4節 強誘電体結晶と共振効果 / p7 (0008.jp2)
  6. 第5節 本研究の内容 / p9 (0009.jp2)
  7. 第6節 本論文の構成 / p16 (0013.jp2)
  8. 参考文献 / p18 (0014.jp2)
  9. 第2章 強誘電体素子の作成および特性評価 / p20 (0015.jp2)
  10. 第1節 緒言 / p20 (0015.jp2)
  11. 第2節 実験 / p20 (0015.jp2)
  12. 2-1 強誘電体試料の作製 / p20 (0015.jp2)
  13. 2-2 強誘電体試料の共振周波数 / p23 (0017.jp2)
  14. 第3節 結果 / p23 (0017.jp2)
  15. 3-1 強誘電体試料の共振特性 / p23 (0017.jp2)
  16. 3-2 反応条件下での共振周波数 / p27 (0019.jp2)
  17. 第4節 考察 / p27 (0019.jp2)
  18. 4-1 強誘電体試料の共振周波数 / p27 (0019.jp2)
  19. 4-2 強誘電体の共振現象と振動モード / p34 (0022.jp2)
  20. 4-3 反応条件下での共振周波数 / p39 (0025.jp2)
  21. 第5節 結言 / p39 (0025.jp2)
  22. 参考文献 / p41 (0026.jp2)
  23. 第3章 共振効果による触媒の高活性化 / p42 (0026.jp2)
  24. 第1節 緒言 / p42 (0026.jp2)
  25. 第2節 実験 / p42 (0026.jp2)
  26. 2-1 強誘電体担持金属触媒の作製 / p42 (0026.jp2)
  27. 2-2 反応装置 / p46 (0028.jp2)
  28. 2-3 高周波印加用反応セル / p46 (0028.jp2)
  29. 2-4 温度制御 / p52 (0031.jp2)
  30. 2-5 高周波発生回路 / p52 (0031.jp2)
  31. 2-6 エタノール酸化反応 / p55 (0033.jp2)
  32. 2-7 反応操作 / p55 (0033.jp2)
  33. 2-8 Pd薄膜触媒のキャラクタリゼーション / p56 (0033.jp2)
  34. 第3節 結果 / p57 (0034.jp2)
  35. 3-1 エタノール酸化反応の挙動 / p57 (0034.jp2)
  36. 3-2 TEおよびTS振動モードによる触媒活性化効果 / p59 (0035.jp2)
  37. 3-3 NiおよびAg薄膜触媒上でのエタノール酸化反応 / p63 (0037.jp2)
  38. 3-4 Pe触媒上でのTE振動モードにおける正および負分極面での活性化エネルギー / p68 (0039.jp2)
  39. 3-5 Pd触媒上でのTE振動モードにおける正および負分極面での反応次数 / p70 (0040.jp2)
  40. 3-6 XRDによるPd薄膜の構造解析 / p70 (0040.jp2)
  41. 3-7 XPSによるPd薄膜表面状態の解析 / p74 (0042.jp2)
  42. 第4節 考察 / p74 (0042.jp2)
  43. 4-1 エタノール酸化反応の反応機構 / p74 (0042.jp2)
  44. 4-2 Pd触媒上での反応次数による速度論的解析 / p76 (0043.jp2)
  45. 4-3 共振状態での活性化エネルギーの変化 / p84 (0047.jp2)
  46. 4-4 共振印加による触媒活性化 / p87 (0049.jp2)
  47. 第5節 結言 / p91 (0051.jp2)
  48. 参考文献 / p93 (0052.jp2)
  49. 第4章 共振効果による反応選択性制御 / p94 (0052.jp2)
  50. 第1節 緒言 / p94 (0052.jp2)
  51. 第2節 実験 / p95 (0053.jp2)
  52. 2-1 強誘電体担持触媒の作製 / p95 (0053.jp2)
  53. 2-2 反応装置および反応セル / p95 (0053.jp2)
  54. 2-3 エタノール脱水および脱水素反応 / p101 (0056.jp2)
  55. 2-4 反応操作 / p101 (0056.jp2)
  56. 2-5 Ag触媒キャラクタリゼーション / p102 (0056.jp2)
  57. 第3節 結果 / p102 (0056.jp2)
  58. 3-1 エタノール脱水および脱水素反応 / p102 (0056.jp2)
  59. 3-2 共振による触媒表面の温度変化 / p104 (0057.jp2)
  60. 3-3 金属触媒上の反応の共振効果による反応選択性の変化 / p104 (0057.jp2)
  61. 3-4 W0₃触媒上の反応の共振による反応選択性の変化 / p110 (0060.jp2)
  62. 3-5 (+)Ag/z-LNおよび(-)Ag/z-LN上の反応の共振による反応選択性の変化 / p114 (0062.jp2)
  63. 3-6 (+)および(-)分極面での共振による活性化エネルギーの変化 / p118 (0064.jp2)
  64. 3-7 共振による反応次数の変化 / p121 (0066.jp2)
  65. 3-8 XRDおよびXPSによるAg薄膜触媒表面の分析 / p123 (0067.jp2)
  66. 第4節 考察 / p123 (0067.jp2)
  67. 4-1 共振印加におけるエタノール脱水および脱水素反応の挙動 / p123 (0067.jp2)
  68. 4-2 エタノール脱水および脱水素反応と反応機構 / p126 (0068.jp2)
  69. 4-3 Ag触媒表面構造 / p128 (0069.jp2)
  70. 4-4 Ag触媒上での反応次数による速度論的解析 / p129 (0070.jp2)
  71. 4-5 共振状態での活性化エネルギーと頻度因子の変化 / p130 (0070.jp2)
  72. 4-6 WO₃触媒の反応選択性に及ぼす共振効果 / p132 (0071.jp2)
  73. 第5節 結言 / p134 (0072.jp2)
  74. 参考文献 / p136 (0073.jp2)
  75. 第5章 触媒の表面物性に及ぼす共振効果 / p137 (0074.jp2)
  76. 第1節 緒言 / p137 (0074.jp2)
  77. 第2節 実験 / p137 (0074.jp2)
  78. 2-1 レーザードップラー法による格子変位測定 / p137 (0074.jp2)
  79. 2-2 容量振動法による表面電位測定 / p140 (0076.jp2)
  80. 2-3 光電効果による光電子放出測定 / p146 (0079.jp2)
  81. 第3節 結果 / p149 (0080.jp2)
  82. 3-1 格子変位測定 / p149 (0080.jp2)
  83. 3-2 表面電位測定 / p151 (0081.jp2)
  84. 3-3 光電効果による光電子放出のしきいエネルギー測定 / p159 (0085.jp2)
  85. 第4節 考察 / p165 (0088.jp2)
  86. 4-1 格子変位測定による共振振動モード解析 / p165 (0088.jp2)
  87. 4-2 音波-電子相互作用および強誘電体の自発分極場による表面電位の発生 / p167 (0089.jp2)
  88. 4-3 光電子放出のしきいエネルギーと仕事関数の関係 / p168 (0090.jp2)
  89. 4-4 仕事関数の変化 / p170 (0091.jp2)
  90. 4-5 Pd触媒上でのエタノール酸化反応の活性化に及ぼす効果 / p181 (0096.jp2)
  91. 4-6 Ag触媒上でのエタノール脱水および脱水素反応の反応選択性に及ぼす効果 / p185 (0098.jp2)
  92. 第5節 結言 / p188 (0100.jp2)
  93. 参考文献 / p190 (0101.jp2)
  94. 第6章 総括 / p191 (0101.jp2)
  95. 本研究に関する発表論文 / p195 (0103.jp2)
  96. 本研究に関する学会発表 / p197 (0104.jp2)
  97. 謝辞 / p200 (0106.jp2)
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Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000174633
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000174910
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000338947
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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