Study on characterization and control of surface adsorbates and oxides on SiC using FTIR-ATR FTIR-ATRによるSiC上の表面吸着質ならびに酸化物の評価・制御に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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Study on characterization and control of surface adsorbates and oxides on SiC using FTIR-ATR
- タイトル別名
-
FTIR-ATRによるSiC上の表面吸着質ならびに酸化物の評価・制御に関する研究
- 著者名
-
土田, 秀一
- 著者別名
-
ツチダ, ヒデカズ
- 学位授与大学
-
長岡技術科学大学
- 取得学位
-
博士(工学)
- 学位授与番号
-
乙第134号
- 学位授与年月日
-
1999-03-25
注記・抄録
博士論文
目次
- Index / p1 (0003.jp2)
- 1.Introduction / p1 (0005.jp2)
- 1.1 Status of power electronics for power systems / p1 (0005.jp2)
- 1.2 Possibility of SiC semiconductor devices / p3 (0006.jp2)
- 1.3 Recent developments on SiC / p6 (0008.jp2)
- 1.4 Aim of this study / p10 (0010.jp2)
- 1.5 Construction of this thesis / p12 (0011.jp2)
- References / p14 (0012.jp2)
- 2.Infrared spectroscopy / p17 (0013.jp2)
- 2.1 Background / p17 (0013.jp2)
- 2.2 Configuration of infrared spectroscopy for SiC surfaces / p19 (0014.jp2)
- 2.3 Theoretical background / p20 (0015.jp2)
- 2.4 Experimental setup / p30 (0020.jp2)
- 2.5 Conclusions / p31 (0020.jp2)
- References / p32 (0021.jp2)
- 3.Bulk absorption / p33 (0021.jp2)
- 3.1 Background / p33 (0021.jp2)
- 3.2 Optical constants of SiC / p33 (0021.jp2)
- 3.3 Total reflection / p36 (0023.jp2)
- 3.4 Lattice absorption / p38 (0024.jp2)
- 3.5 Conclusions / p40 (0025.jp2)
- References / p41 (0025.jp2)
- 4.Chemical treatment / p42 (0026.jp2)
- 4.1 Background / p42 (0026.jp2)
- 4.2 HF treated surfaces / p43 (0026.jp2)
- 4.3 Chemical oxides / p52 (0031.jp2)
- 4.4 Conclusions / p59 (0034.jp2)
- References / p60 (0035.jp2)
- 5.Heat treatment in hydrogen / p62 (0036.jp2)
- 5.1 Background / p62 (0036.jp2)
- 5.2 Experimental / p64 (0037.jp2)
- 5.3(0001)surface / p66 (0038.jp2)
- 5.4(0001)surface / p77 (0043.jp2)
- 5.5 Conclusions / p85 (0047.jp2)
- References / p86 (0048.jp2)
- 6.Thermal oxidation / p88 (0049.jp2)
- 6.1 Background / p88 (0049.jp2)
- 6.2 Experimental procedure / p89 (0049.jp2)
- 6.3 SiO₂ films on 6H-SiC / p91 (0050.jp2)
- 6.4 Conclusions / p103 (0056.jp2)
- References / p104 (0057.jp2)
- 7.Concluding remarks / p106 (0058.jp2)
- 7.1 Summary of this thesis / p106 (0058.jp2)
- 7.2 Future prospects / p107 (0058.jp2)
- Acknowledgments / p108 (0059.jp2)
