ラジカルビームソースを用いた新規セラミックス薄膜合成法に関する研究 ラジカル ビーム ソース オ モチイタ シンキ セラミックス ハクマク ゴウセイホウ ニカンスル ケンキュウ

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著者

    • 渡部, 誉之 ワタナベ, シゲユキ

書誌事項

タイトル

ラジカルビームソースを用いた新規セラミックス薄膜合成法に関する研究

タイトル別名

ラジカル ビーム ソース オ モチイタ シンキ セラミックス ハクマク ゴウセイホウ ニカンスル ケンキュウ

著者名

渡部, 誉之

著者別名

ワタナベ, シゲユキ

学位授与大学

筑波大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第2098号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

近年、セラミックスが活躍する領域は極めて広い。そして、セラミックス薄膜の形成技術および評価技術の進歩には、目覚しいものがある。これは一つには半導体製造プロセスの発展に負うところが大である。 ...

筑波大学博士 (工学) 学位論文・平成11年3月25日授与 (甲第2098号)

標題紙,目次 -- 研究背景 -- 薄膜 -- 薄膜合成法とその環境 -- パルス分子線ラジカセビーム蒸着法 -- 薄膜解析法 -- ラジカセビーム蒸着法による酸化チタン薄膜の合成 -- 結果と考察 -- 結論 -- 参考文献 -- ラジカセビーム蒸着法による窒化アルミニウム薄膜の合成 -- 薄膜の合成方法とその原理 -- 実験方法とその手順 -- 結果と考察 -- 結論 -- 参考文献 -- 総括 -- 謝辞

目次

  1. 博士論文目次 / p2 (0003.jp2)
  2. 1.研究背景 / p4 (0005.jp2)
  3. 1.1 緒言 / p4 (0005.jp2)
  4. 2.薄膜 / p8 (0009.jp2)
  5. 3.薄膜合成法とその環境 / p12 (0013.jp2)
  6. 3.1 真空 / p12 (0013.jp2)
  7. 3.2 物理蒸着法(PVD) / p16 (0017.jp2)
  8. 3.3 化学蒸着法(CVD) / p25 (0026.jp2)
  9. 3.4 プラズマを用いた薄膜合成プロセス / p27 (0028.jp2)
  10. 4.パルス分子線ラジカルビーム蒸着法 / p33 (0034.jp2)
  11. 4.1 中性な酸化源の酸化力 / p33 (0034.jp2)
  12. 5.薄膜解析法 / p37 (0038.jp2)
  13. 5.1 回折による結晶構造解析 / p37 (0038.jp2)
  14. 5.2 薄膜組成分析 / p42 (0043.jp2)
  15. 6.ラジカルビーム蒸着法による酸化チタン薄膜の合成 / p75 (0076.jp2)
  16. 6.1 緒言 / p75 (0076.jp2)
  17. 6.2 基板の準備 / p76 (0077.jp2)
  18. 6.3 基板温度の校正 / p77 (0078.jp2)
  19. 6.4 Ti源の準備 / p77 (0078.jp2)
  20. 6.5 ラジカルビーム源の準備 / p80 (0081.jp2)
  21. 6.6 実験手順 / p80 (0081.jp2)
  22. 7.結果と考察 / p85 (0087.jp2)
  23. 7.1 EPMAによる膜厚の定量 / p85 (0087.jp2)
  24. 7.2 EPMAによる測定 / p85 (0087.jp2)
  25. 7.3 XPSによる分析 / p86 (0088.jp2)
  26. 7.4 ガラス基板を用いたとき / p86 (0088.jp2)
  27. 7.5 MgO(100)基板を用いた場合 / p100 (0102.jp2)
  28. 7.6 RHEED観察 / p126 (0128.jp2)
  29. 8.結論 / p127 (0129.jp2)
  30. 9.参考文献 / p128 (0130.jp2)
  31. 10.ラジカルビーム蒸着法による窒化アルミニウム薄膜の合成 / p130 (0132.jp2)
  32. 10.1 緒言 / p130 (0132.jp2)
  33. 10.2 研究の背景、目的 / p131 (0133.jp2)
  34. 10.3 窒化物の構造と性質 / p132 (0134.jp2)
  35. 11.薄膜の合成方法とその原理 / p138 (0140.jp2)
  36. 12.実験方法とその手順 / p141 (0143.jp2)
  37. 13.結果と考察 / p142 (0144.jp2)
  38. 13.1 電子線マイクロアナライザー(EPMA)による窒化率の測定 / p142 (0144.jp2)
  39. 13.2 X線回折(XRD) / p142 (0144.jp2)
  40. 13.3 X線光電子分光(XPS)による深さ分析 / p146 (0148.jp2)
  41. 14.結論 / p150 (0151.jp2)
  42. 15.参考文献 / p151 (0152.jp2)
  43. 16.総括 / p153 (0154.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000185604
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000185886
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000349918
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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