ルテニウムアンミンスルフォキシド錯体の異性化を利用した分子ヒステリシスの研究

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著者

    • 橋本, 衷子 ハシモト, アツコ

書誌事項

タイトル

ルテニウムアンミンスルフォキシド錯体の異性化を利用した分子ヒステリシスの研究

著者名

橋本, 衷子

著者別名

ハシモト, アツコ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士 (学術)

学位授与番号

甲第4574号

学位授与年月日

2000-03-27

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 1章 / 1-1 / (0003.jp2)
  2. ルテニウムアンミンスルフォキシド錯体の異性化 / 1-1 / (0003.jp2)
  3. 目次 / 1-1 / (0003.jp2)
  4. 1-1 緒言 / 1-2 / (0004.jp2)
  5. 1-2 実験 / 1-4 / (0005.jp2)
  6. 1-2-1 試薬 / 1-4 / (0005.jp2)
  7. 1-2-2 配位子 / 1-6 / (0006.jp2)
  8. 1-2-3 錯体の合成 / 1-8 / (0007.jp2)
  9. 1-2-4 装置 / 1-18 / (0012.jp2)
  10. 1-2-5 測定 / 1-19 / (0012.jp2)
  11. 1-2-6 薄層電極を使用したサイクリックボルタンメトリー / 1-19 / (0012.jp2)
  12. 1-2-7 異性化反応速度 / 1-19 / (0012.jp2)
  13. 1-2-8 異性化エネルギー / 1-20 / (0013.jp2)
  14. 1-3 結果と考察 / 1-21 / (0013.jp2)
  15. 1-3-1 [Ru(NH3)5(sulfoxide)]2+/3+錯体の異性化反応 / 1-21 (0013.jp2)
  16. 1-3-2 薄層電極を使用したサイクリックボルタンメトリー / 1-22 / (0014.jp2)
  17. 1-3-3 CIS-[Ru(NH3)4(sulfoxide)2]2+/3゛錯体の異性化反応 / 1-23 (0014.jp2)
  18. 1-3-4 スルフォキシド配位子の異性化反応速度 / 1-24 / (0015.jp2)
  19. 1-3-5 異性化のエネルギー関係 / 1-29 / (0017.jp2)
  20. 1-3-6 デジタルシミュレーションから求めたCIS-[Ru(NH3)4(sulfoxide)212+/3+錯体の異性化反応 / 1-31 (0018.jp2)
  21. 1-4 総括 / 1-33 / (0019.jp2)
  22. 1-5 付録 / 1-34 / (0020.jp2)
  23. 1-5-1 [Ru(NH3)5(dimethylsulfoxide)]3+錯体の構造決定(X線結晶構造解析) / 1-34 / (0020.jp2)
  24. 1-5-2 分子軌道計算による結合状態の考察 / 1-35 / (0020.jp2)
  25. 1-5 文献 / 1-36 / (0021.jp2)
  26. Figure / 1-37 / (0022.jp2)
  27. 2章 / 2-1 / (0029.jp2)
  28. 構造変化を伴う電子移動反応 / 2-1 / (0029.jp2)
  29. 目次 / 2-1 / (0029.jp2)
  30. 2-1 緒言 / 2-2 / (0030.jp2)
  31. 2-2 実験 / 2-4 / (0031.jp2)
  32. 2-2-1 試薬 / 2-4 / (0031.jp2)
  33. 2-2-2 装置 / 2-4 / (0031.jp2)
  34. 2-2-3 錯体の合成 / 2-6 / (0032.jp2)
  35. 2-3 結果と考察 / 2-7 / (0032.jp2)
  36. 2-3-1 [Ru(NH3)5(n-butylsulfoxide)]2+/3+の性質 / 2-7 (0032.jp2)
  37. 2-3-2 CIS-[Ru(NH3)4(pyridine-4-carboxamide)2]2+/3+の性質 / 2-7 (0032.jp2)
  38. 2-3-3 反応の吸光度変化の測定 / 2-8 / (0033.jp2)
  39. 2-3-4 理論反応速度式の導出 / 2-8 / (0033.jp2)
  40. 2-3-5 理論反応速度式によるシミュレーション / 2-11 / (0034.jp2)
  41. 2-3-6 分子ヒステリシスの記憶時間に関する考察 / 2-12 / (0035.jp2)
  42. 2-4 総括 / 2-13 / (0035.jp2)
  43. 2-5 文献 / 2-13 / (0035.jp2)
  44. Figure / 2-14 / (0036.jp2)
  45. 3章 / 3-1 / (0042.jp2)
  46. 分子ヒステリシス(ルテニウム金属錯体を利用した分子素子構築の基礎研究) / 3-1 / (0042.jp2)
  47. 目次 / 3-1 / (0042.jp2)
  48. 3-1 緒言 / 3-3 / (0043.jp2)
  49. 3-2 実験 / 3-8 / (0046.jp2)
  50. 3-2-1 試薬 / 3-8 / (0046.jp2)
  51. 3-2-2 錯体の合成 / 3-9 / (0046.jp2)
  52. 3-2-3 装置 / 3-15 / (0049.jp2)
  53. 3-2-4 電気化学測定 / 3-15 / (0049.jp2)
  54. 3-2-5 吸収測定 / 3-17 / (0050.jp2)
  55. 3-3 測定条件と結果 / 3-18 / (0051.jp2)
  56. 3-3-1 合成 / 3-18 / (0051.jp2)
  57. 3-3-2 電気化学挙動(cyclicvoltammetrydigitalsimulation) / 3-19 / (0051.jp2)
  58. 3-3-3 異性化速度測定 / 3-21 / (0052.jp2)
  59. 3-3-4 混合原子価錯体間の変換速度 / 3-21 / (0052.jp2)
  60. 3-3-5 平衡の測定 / 3-25 / (0054.jp2)
  61. 3-3-6 混合原子価錯体の吸収 / 3-27 / (0055.jp2)
  62. 3-3-7 ロジウム錯体の測定 / 3-33 / (0058.jp2)
  63. 3-4 考察 / 3-34 / (0059.jp2)
  64. 3-4-1 分子ヒステリシス錯体の設計 / 3-34 / (0059.jp2)
  65. 3-4-2 複核分子ヒステリシス錯体の酸化還元挙動の特徴 / 3-35 / (0059.jp2)
  66. 3-4-3 配位子による酸化還元挙動の変化 / 3-35 / (0059.jp2)
  67. 3-4-4 配位子による酸化還元電位の変化 / 3-36 / (0060.jp2)
  68. 3-4-5 異性化反応速度(k1,k2) / 3-36 / (0060.jp2)
  69. 3-4-6 分子内電子移動を伴った異性化反応(kf,kb) / 3-39 / (0061.jp2)
  70. 3-4-7 吸収 / 3-34 / (0063.jp2)
  71. 3-4-8 今後の展望 / 3-46 / (0065.jp2)
  72. 3-5 その他の分子ヒステリシス錯体 / 3-47 / (0065.jp2)
  73. 3-5-1 分子ヒステリシス錯体における,分子内電子移動を伴った構造異性化反応速度測定([(NH3)5Ru(l,5-dithiacyclooctane1-oxide)Ru(NH3)5l4+/5+/6+の薄層電気化学セル(TLC)を用いた電気化学測定について) / 3-47 (0065.jp2)
  74. 3-5-2 ベンゼン系架橋配位子を持った分子ヒステリシス錯体 / 3-50 / (0067.jp2)
  75. 3-5-3 2つのスルフォキシド配位子部を持ったルテニウム複核錯体CIS-[(dmso)(NH3)4RLi(Dz)RLL(NH3)4(cimso)]4+/5+/胴- / 3-55 (0069.jp2)
  76. 3-6 総括 / 3-56 / (0070.jp2)
  77. 3-7 文献 / 3-57 / (0070.jp2)
  78. Figure / 3-59 / (0071.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000186194
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000186477
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000350508
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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