高密度マイクロ波プラズマによる薄膜プロセスの研究

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著者

    • 小倉, 輝 コクラ, ヒカル

書誌事項

タイトル

高密度マイクロ波プラズマによる薄膜プロセスの研究

著者名

小倉, 輝

著者別名

コクラ, ヒカル

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第4695号

学位授与年月日

2000-03-27

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 本研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 本研究の目的 / p13 (0011.jp2)
  5. 1.3 本論文の構成 / p14 (0012.jp2)
  6. 参考文献 / p16 (0013.jp2)
  7. 第2章 表面波共鳴吸収を利用した新しい電子密度測定法 / p18 (0014.jp2)
  8. 2.1 はじめに / p18 (0014.jp2)
  9. 2.2 プラズマ吸収プローブの原理 / p19 (0014.jp2)
  10. 2.3 プラズマ吸収プローブの諸特性 / p33 (0021.jp2)
  11. 2.4 実用機への応用 / p42 (0026.jp2)
  12. 2.5 まとめ / p45 (0027.jp2)
  13. 参考文献 / p47 (0028.jp2)
  14. 第3章 表面波プラズマの基礎特性評価 / p48 (0029.jp2)
  15. 3.1 はじめに / p48 (0029.jp2)
  16. 3.2 実験装置およびアンテナ構造 / p49 (0029.jp2)
  17. 3.3 表面波のモード / p51 (0030.jp2)
  18. 3.4 表面波の電界分布およびモードの制御 / p69 (0039.jp2)
  19. 3.5 まとめ / p73 (0041.jp2)
  20. 参考文献 / p75 (0042.jp2)
  21. 第4章 表面波プラズマと誘導結合プラズマの活性種比較 / p76 (0043.jp2)
  22. 4.1 はじめに / p76 (0043.jp2)
  23. 4.2 実験装置 / p77 (0043.jp2)
  24. 4.3 イオン・中性ラジカル組成の比較 / p79 (0044.jp2)
  25. 4.4 石英窓の損耗と不純物放出 / p88 (0049.jp2)
  26. 4.5 まとめ / p92 (0051.jp2)
  27. 参考文献 / p93 (0051.jp2)
  28. 第5章 表面波プラズマと誘導結合プラズマの電子エネルギー分布関数 / p94 (0052.jp2)
  29. 5.1 はじめに / p94 (0052.jp2)
  30. 5.2 発光分光法による高エネルギー電子のモニタリング / p95 (0052.jp2)
  31. 5.3 電子エネルギー分布関数の測定 / p100 (0055.jp2)
  32. 5.4 まとめ / p109 (0059.jp2)
  33. 参考文献 / p110 (0060.jp2)
  34. 第6章 イオン・中性ラジカル組成の電子エネルギー分布依存性 / p111 (0060.jp2)
  35. 6.1 はじめに / p111 (0060.jp2)
  36. 6.2 bi-Maxwellian型分布関数 / p111 (0060.jp2)
  37. 6.3 計算モデル / p115 (0062.jp2)
  38. 6.4 計算結果と討論 / p122 (0066.jp2)
  39. 6.5 まとめ / p132 (0071.jp2)
  40. 参考文献 / p134 (0072.jp2)
  41. 第7章 電子サイクロトロン共鳴プラズマによるボロンコーティング / p135 (0072.jp2)
  42. 7.1 はじめに / p135 (0072.jp2)
  43. 7.2 実験装置およびECRプラズマの特性 / p137 (0073.jp2)
  44. 7.3 磁力線に対するイオン種・中性ラジカル種の挙動と膜堆積への寄与 / p142 (0076.jp2)
  45. 7.4 イオン・中性ラジカルの拡散と膜堆積 / p151 (0080.jp2)
  46. 7.5 まとめ / p166 (0088.jp2)
  47. 参考文献 / p168 (0089.jp2)
  48. 第8章 総括 / (0089.jp2)
  49. 8.1 本研究のまとめ / p169 (0089.jp2)
  50. 8.2 今後の課題 / p174 (0092.jp2)
  51. 謝辞 / p176 (0093.jp2)
  52. 研究業績 / p178 (0094.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000186315
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000186598
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000350629
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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