TPD-Ⅱ装置における定常高密度プラズマの生成と反転分布生成に関する基礎研究

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著者

    • 難波, 愼一 ナンバ, シンイチ

書誌事項

タイトル

TPD-Ⅱ装置における定常高密度プラズマの生成と反転分布生成に関する基礎研究

著者名

難波, 愼一

著者別名

ナンバ, シンイチ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第4713号

学位授与年月日

2000-03-27

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 はじめに / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 レーザー励起法 / p2 (0006.jp2)
  5. 1.3 TPD装置を用いた反転分布生成の歴史 / p9 (0009.jp2)
  6. 1.4 本研究の目的 / p12 (0011.jp2)
  7. 1.5 本論文の構成 / p13 (0011.jp2)
  8. 第2章 TPDプラズマにおける高密度プラズマの生成 / p17 (0013.jp2)
  9. 2.1 緒言 / p17 (0013.jp2)
  10. 2.2 直線型プラズマ発生装置TPD-II / p18 (0014.jp2)
  11. 2.3 計測機器 / p27 (0018.jp2)
  12. 2.4 TPDプラズマの特性 / p40 (0025.jp2)
  13. 2.5 結言 / p48 (0029.jp2)
  14. 第3章 衝突幅射モデルによるTPDプラズマ診断と再結合プラズマ法による反転分布生成 / p52 (0031.jp2)
  15. 3.1 緒言 / p52 (0031.jp2)
  16. 3.2 衝突輻射モデル / p53 (0031.jp2)
  17. 3.3 プラズマ中でのポピュレーションに関する一般的な特徴 / p64 (0037.jp2)
  18. 3.4 分光測定値と衝突輻射モデルの比較 / p71 (0040.jp2)
  19. 3.5 再結合プラズマにおけるヘリウム1価イオンの反転分布生成 / p76 (0043.jp2)
  20. 3.6 結言 / p81 (0045.jp2)
  21. 第4章 アルファ粒子と水素分子との選択的2電子捕獲過程と反転分布生成 / p90 (0050.jp2)
  22. 4.1 緒言 / p90 (0050.jp2)
  23. 4.2 アルファ粒子と水素分子との選択的2電子捕獲過程 / p92 (0051.jp2)
  24. 4.3 電荷移行反応法による反転分布生成 / p106 (0060.jp2)
  25. 4.4 結言 / p108 (0061.jp2)
  26. 第5章 分子活性化再結合による選択的電子捕獲過程と反転分布生成 / p116 (0065.jp2)
  27. 5.1 緒言 / p116 (0065.jp2)
  28. 5.2 ヘリウム・水素プラズマにおける分子活性化再結合過程 / p117 (0066.jp2)
  29. 5.3 ヘリウムプラズマへの水素ガス導入実験II / p123 (0069.jp2)
  30. 5.4 分子活性化再結合によるヘリウム1価イオン損失 / p126 (0071.jp2)
  31. 5.5 分子活性化再結合による反転分布生成 / p129 (0073.jp2)
  32. 5.6 結言 / p130 (0073.jp2)
  33. 第6章 総括 / p134 (0075.jp2)
  34. 6.1 本研究のまとめ / p134 (0075.jp2)
  35. 6.2 今後の展望 / p136 (0076.jp2)
  36. 謝辞 / p141 (0079.jp2)
  37. 研究業績 / p142 (0079.jp2)
4アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000186333
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000186616
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000350647
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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