TPD-Ⅱ装置における定常高密度プラズマの生成と反転分布生成に関する基礎研究
Access this Article
Search this Article
Author
Bibliographic Information
- Title
-
TPD-Ⅱ装置における定常高密度プラズマの生成と反転分布生成に関する基礎研究
- Author
-
難波, 愼一
- Author(Another name)
-
ナンバ, シンイチ
- University
-
名古屋大学
- Types of degree
-
博士 (工学)
- Grant ID
-
甲第4713号
- Degree year
-
2000-03-27
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 1.1 はじめに / p1 (0005.jp2)
- 1.2 レーザー励起法 / p2 (0006.jp2)
- 1.3 TPD装置を用いた反転分布生成の歴史 / p9 (0009.jp2)
- 1.4 本研究の目的 / p12 (0011.jp2)
- 1.5 本論文の構成 / p13 (0011.jp2)
- 第2章 TPDプラズマにおける高密度プラズマの生成 / p17 (0013.jp2)
- 2.1 緒言 / p17 (0013.jp2)
- 2.2 直線型プラズマ発生装置TPD-II / p18 (0014.jp2)
- 2.3 計測機器 / p27 (0018.jp2)
- 2.4 TPDプラズマの特性 / p40 (0025.jp2)
- 2.5 結言 / p48 (0029.jp2)
- 第3章 衝突幅射モデルによるTPDプラズマ診断と再結合プラズマ法による反転分布生成 / p52 (0031.jp2)
- 3.1 緒言 / p52 (0031.jp2)
- 3.2 衝突輻射モデル / p53 (0031.jp2)
- 3.3 プラズマ中でのポピュレーションに関する一般的な特徴 / p64 (0037.jp2)
- 3.4 分光測定値と衝突輻射モデルの比較 / p71 (0040.jp2)
- 3.5 再結合プラズマにおけるヘリウム1価イオンの反転分布生成 / p76 (0043.jp2)
- 3.6 結言 / p81 (0045.jp2)
- 第4章 アルファ粒子と水素分子との選択的2電子捕獲過程と反転分布生成 / p90 (0050.jp2)
- 4.1 緒言 / p90 (0050.jp2)
- 4.2 アルファ粒子と水素分子との選択的2電子捕獲過程 / p92 (0051.jp2)
- 4.3 電荷移行反応法による反転分布生成 / p106 (0060.jp2)
- 4.4 結言 / p108 (0061.jp2)
- 第5章 分子活性化再結合による選択的電子捕獲過程と反転分布生成 / p116 (0065.jp2)
- 5.1 緒言 / p116 (0065.jp2)
- 5.2 ヘリウム･水素プラズマにおける分子活性化再結合過程 / p117 (0066.jp2)
- 5.3 ヘリウムプラズマへの水素ガス導入実験II / p123 (0069.jp2)
- 5.4 分子活性化再結合によるヘリウム1価イオン損失 / p126 (0071.jp2)
- 5.5 分子活性化再結合による反転分布生成 / p129 (0073.jp2)
- 5.6 結言 / p130 (0073.jp2)
- 第6章 総括 / p134 (0075.jp2)
- 6.1 本研究のまとめ / p134 (0075.jp2)
- 6.2 今後の展望 / p136 (0076.jp2)
- 謝辞 / p141 (0079.jp2)
- 研究業績 / p142 (0079.jp2)