TFT-LCD用電極材料およびガラス基板上の成膜プロセスの信頼性向上に関する研究 TFT-LCD用 電極 材料 ガラス 基板上 成膜 プロセス 信頼性 向上

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著者

    • 高辻博史 タカツジ, ヒロシ

書誌事項

タイトル

TFT-LCD用電極材料およびガラス基板上の成膜プロセスの信頼性向上に関する研究

タイトル別名

TFT-LCD用 電極 材料 ガラス 基板上 成膜 プロセス 信頼性 向上

著者名

高辻博史

著者別名

タカツジ, ヒロシ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第5709号

学位授与年月日

2000-02-29

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 1.緒言 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 アレイプロセス / p5 (0010.jp2)
  5. 1.3 本研究の目的とその背景 / p9 (0014.jp2)
  6. 1.4 本論文の構成 / p12 (0017.jp2)
  7. 参考文献 / p15 (0020.jp2)
  8. 2.大型ガラス基板への金属膜成膜における工業的課題の検討 / (0022.jp2)
  9. 2.1 序論 / p17 (0022.jp2)
  10. 2.2 スパッタリング成膜法 / p17 (0022.jp2)
  11. 2.3 本研究で主に使用したスパッタ装置 / p19 (0024.jp2)
  12. 2.4 大型ガラス基板への金属薄膜スパッタ成膜の課題と解決手法 / p23 (0028.jp2)
  13. 2.5 結論 / p30 (0035.jp2)
  14. 参考文献 / p31 (0036.jp2)
  15. 3.ガラス基板上のAl金属膜に及ぼすストレスマイグレーションの結晶学的検討 / p32 (0037.jp2)
  16. 3.1 序論 / p32 (0037.jp2)
  17. 3.2 ストレスマイグレーション(ウィスカー、ヒロック) / p32 (0037.jp2)
  18. 3.3 ストレスマイグレーションの評価および発生機構 / p37 (0042.jp2)
  19. 3.4 結論 / p51 (0056.jp2)
  20. 参考文献 / p52 (0057.jp2)
  21. 4.実験計画法によるAl成膜のプロセスパラメーター決定 / p53 (0058.jp2)
  22. 4.1 序論 / p53 (0058.jp2)
  23. 4.2 実験計画法(田口メソッド) / p54 (0059.jp2)
  24. 4.3 実験方法 / p57 (0062.jp2)
  25. 4.4 結果および考察 / p59 (0064.jp2)
  26. 4.5 結論 / p69 (0074.jp2)
  27. 参考文献 / p70 (0075.jp2)
  28. 5.Al-Cu合金の配線材料への応用 / p71 (0076.jp2)
  29. 5.1 序論 / p71 (0076.jp2)
  30. 5.2 実験方法 / p71 (0076.jp2)
  31. 5.3 結果および考察 / p73 (0078.jp2)
  32. 5.4 結論 / p82 (0087.jp2)
  33. 参考文献 / p83 (0088.jp2)
  34. 6.希土類金属を含むアルミ合金(Al-Nd)の配線材料への応用 / p84 (0089.jp2)
  35. 6.1 序論 / p84 (0089.jp2)
  36. 6.2 実験方法 / p85 (0090.jp2)
  37. 6.3 結果および考察 / p86 (0091.jp2)
  38. 6.4 結論 / p95 (0100.jp2)
  39. 参考文献 / p96 (0101.jp2)
  40. 7.InZnOx透明導電膜の特性とTFT-LCDへの応用 / p97 (0102.jp2)
  41. 7.1 序論 / p97 (0102.jp2)
  42. 7.2 実験方法 / p97 (0102.jp2)
  43. 7.3 TFT-LCDへ応用するための膜特性 / p98 (0103.jp2)
  44. 7.4 IZO膜の特異な特性 / p107 (0112.jp2)
  45. 7.5 結論 / p111 (0116.jp2)
  46. 参考文献 / p113 (0118.jp2)
  47. 8.Al-Nd合金ゲート電極配線とIZO透明導電膜を用いた超高精細TFT-LCD / p114 (0119.jp2)
  48. 8.1 序論 / p114 (0119.jp2)
  49. 8.2 16.3”200ppi.QSXGA超高精細TFT-LCD / p114 (0119.jp2)
  50. 8.3 低抵抗Al-Ndゲート電極配線およびIZO透明導電膜の活用 / p114 (0120.jp2)
  51. 8.4 本研究の大型高精細TFT-LCDへの貢献 / p115 (0120.jp2)
  52. 参考文献 / p120 (0125.jp2)
  53. 9.総括 / p121 (0126.jp2)
  54. 謝辞 / p127 (0132.jp2)
4アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000186397
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000186680
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000350711
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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