多結晶シリコンと石英から成る積層形偏光分離素子に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 室, 幸市 ムロ, コウイチ

書誌事項

タイトル

多結晶シリコンと石英から成る積層形偏光分離素子に関する研究

著者名

室, 幸市

著者別名

ムロ, コウイチ

学位授与大学

宇都宮大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第92号

学位授与年月日

2000-03-24

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0005.jp2)
  2. 第1章 緒言 / p1 (0007.jp2)
  3. 1-1.研究目的と背景 / p1 (0007.jp2)
  4. 1-2.本研究の概要 / p3 (0009.jp2)
  5. 第2章 積層形偏光分離素子の構造と動作原理 / p5 (0011.jp2)
  6. 2-1.構造 / p5 (0011.jp2)
  7. 2-2.最適構造パラメータ / p6 (0012.jp2)
  8. 2-3.構成材料 / p9 (0015.jp2)
  9. 2-4.まとめ / p12 (0018.jp2)
  10. 第3章 反応性スパッタリングを利用した交互多層膜作製方法 / p13 (0019.jp2)
  11. 3-1.成膜装置 / p13 (0019.jp2)
  12. 3-2.石英薄膜の作製 / p15 (0021.jp2)
  13. 3-3.アモルファスシリコンと石英から成る交互多層膜の作製と構造評価 / p17 (0023.jp2)
  14. 3-4.まとめ / p20 (0026.jp2)
  15. 第4章 積層形偏光分離素子の作製 / p21 (0027.jp2)
  16. 4-1.多結晶シリコン薄膜の作製と評価 / p21 (0027.jp2)
  17. 4-2.偏光分離素子用光学多層膜の作製 / p40 (0046.jp2)
  18. 4-3.偏光分離特性 / p44 (0050.jp2)
  19. 4-4.まとめ / p48 (0054.jp2)
  20. 第5章 積層形偏光分離素子の低損失化 / p49 (0055.jp2)
  21. 5-1.成膜温度に対する損失依存性 / p49 (0055.jp2)
  22. 5-2.多層膜を構成する1層当りの膜厚に対する損失依存性 / p52 (0058.jp2)
  23. 5-3.光学異方性 / p59 (0065.jp2)
  24. 5-4.微細構造の成膜ガス圧依存性 / p61 (0067.jp2)
  25. 5-5.光学特性 / p65 (0071.jp2)
  26. 5-6.積層形偏光分離素子用光学多層膜の作製 / p67 (0073.jp2)
  27. 5-7.まとめ / p69 (0075.jp2)
  28. 第6章 結言 / p70 (0076.jp2)
  29. 謝辞 / p72 (0078.jp2)
  30. 参考文献 / p74 (0080.jp2)
  31. 発表論文 / p77 (0083.jp2)
  32. 口頭発表論文 / p78 (0084.jp2)
  33. 付録 / p79 (0085.jp2)
  34. A.多層膜作製装置 / p79 (0085.jp2)
  35. B.成膜ガスの残留時間の評価 / p80 (0086.jp2)
  36. C.アニールによる結晶化の検討 / p81 (0087.jp2)
  37. D.シリコンのキャリア濃度測定 / p86 (0092.jp2)
  38. E.反射率の入射角依存性を利用した異方性媒質の屈折率の測定 / p88 (0094.jp2)
  39. F.多層膜積層過程における1層当りの膜厚変動の検討 / p92 (0098.jp2)
4アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000187222
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000187505
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000351536
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ