低速電子線励起発光用蛍光薄膜の作製と評価に関する研究
Access this Article
Search this Article
Author
Bibliographic Information
- Title
-
低速電子線励起発光用蛍光薄膜の作製と評価に関する研究
- Author
-
磯貝, 英一
- Author(Another name)
-
イソガイ, ヒデカズ
- University
-
日本大学
- Types of degree
-
博士 (工学)
- Grant ID
-
甲第2795号
- Degree year
-
2000-03-25
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
- 1-1 本研究の背景 / p1 (0006.jp2)
- 1-2 本研究の目的と意義 / p3 (0008.jp2)
- 1-3 本論文の構成 / p5 (0010.jp2)
- 参考文献 / p6 (0011.jp2)
- 第2章 ディスプレイ用蛍光体の開発動向 / p7 (0012.jp2)
- 2-1 発光ディスプレイの研究･開発動向 / p7 (0012.jp2)
- 2-2 蛍光体の開発動向 / p26 (0031.jp2)
- 2-3 FED用蛍光体の課題と開発動向 / p36 (0041.jp2)
- 2-4 薄膜蛍光体の特徴 / p38 (0043.jp2)
- 参考文献 / p40 (0045.jp2)
- 第3章 スパッタ成膜及びin-situ蛍光特性評価システムの構築 / p41 (0046.jp2)
- 3-1 背景 / p41 (0046.jp2)
- 3-2 真空システムの概要 / p43 (0048.jp2)
- 3-3 試料交換部 / p46 (0051.jp2)
- 3-4 スパッタ成膜部 / p46 (0051.jp2)
- 3-5 蛍光特性評価部 / p47 (0052.jp2)
- 3-6 結晶構造評価 / p51 (0056.jp2)
- 3-7 まとめ / p53 (0058.jp2)
- 参考文献 / p54 (0059.jp2)
- 第4章 Zn-Ga-O薄膜の作製 / p55 (0060.jp2)
- 4-1 背景 / p55 (0060.jp2)
- 4-2 作製プロセス / p56 (0061.jp2)
- 4-3 評価 / p62 (0067.jp2)
- 4-4 まとめ / p70 (0075.jp2)
- 参考文献 / p71 (0076.jp2)
- 第5章 ZnGa₂O₄塗布膜上におけるZn-Ga-O系薄膜の蛍光特性評価 / p72 (0077.jp2)
- 5-1 背景 / p72 (0077.jp2)
- 5-2 作製プロセス / p72 (0077.jp2)
- 5-3 評価 / p75 (0080.jp2)
- 5-4 まとめ / p81 (0086.jp2)
- 参考文献 / p82 (0087.jp2)
- 第6章 2層構造アモルファスZn-Ga-O系薄膜の蛍光特性評価 / p83 (0088.jp2)
- 6-1 背景 / p83 (0088.jp2)
- 6-2 作製プロセス / p84 (0089.jp2)
- 6-3 蛍光特性評価 / p88 (0093.jp2)
- 6-4 2層構造アモルファスZn-Ga-O系薄膜の膜厚方向の構造検討 / p91 (0096.jp2)
- 6-5 2層構造による発光効率増大機構の検討 / p94 (0099.jp2)
- 6-6 まとめ / p98 (0103.jp2)
- 第7章 総論 / p101 (0106.jp2)
- 謝辞 / p104 (0109.jp2)
- 研究業績リスト / p105 (0110.jp2)