高速化、微細化、高信頼化に対応可能なULSIアルミ配線技術実現のための一方策

この論文をさがす

著者

    • 新海, 聡子 シンカイ, サトコ

書誌事項

タイトル

高速化、微細化、高信頼化に対応可能なULSIアルミ配線技術実現のための一方策

著者名

新海, 聡子

著者別名

シンカイ, サトコ

学位授与大学

北見工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第4号

学位授与年月日

2000-03-17

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 ULSIの背景と動向 / p2 (0005.jp2)
  4. 1.2 次世代配線材料としてのAlと微細化の問題 / p6 (0007.jp2)
  5. 1.3 高速化を加味した高融点金属の選択 / p7 (0008.jp2)
  6. 1.4 本研究の目的と本論文の構成 / p10 (0009.jp2)
  7. 1.5 参考文献 / p12 (0010.jp2)
  8. 第2章 実験方法 / p13 (0011.jp2)
  9. 2.1 試料の作製方法 / p14 (0011.jp2)
  10. 2.2 試料の評価 / p14 (0011.jp2)
  11. 2.3 試料の熱処理 / p19 (0014.jp2)
  12. 2.4 参考文献 / p19 (0014.jp2)
  13. 第3章 n-(001)Si上への(002)単配向Hf膜の作製条件の検討 / p21 (0015.jp2)
  14. 3.1 はじめに / p22 (0015.jp2)
  15. 3.2 実験方法 / p23 (0016.jp2)
  16. 3.3 結果と検討 / p23 (0016.jp2)
  17. 3.4 小括 / p35 (0022.jp2)
  18. 3.5 参考文献 / p36 (0022.jp2)
  19. 第4章 (002)単配向Hf膜のシリサイド形成初期過程と拡散バリヤ特性 / p39 (0024.jp2)
  20. 4.1 はじめに / p40 (0024.jp2)
  21. 4.2 実験方法 / p41 (0025.jp2)
  22. 4.3 結果と検討 / p42 (0025.jp2)
  23. 4.4 小括 / p50 (0029.jp2)
  24. 4.5 参考文献 / p51 (0030.jp2)
  25. 第5章 Alメタライゼーション系におけるHf膜の拡散バリヤ特性 / p53 (0031.jp2)
  26. 5.1 はじめに / p54 (0031.jp2)
  27. 5.2 実験方法 / p54 (0031.jp2)
  28. 5.3 結果と検討 / p55 (0032.jp2)
  29. 5.4 小括 / p61 (0035.jp2)
  30. 5.5 参考文献 / p62 (0035.jp2)
  31. 第6章 Al₃Hf金属間化合物膜の作製と電気的特性の評価 / p63 (0036.jp2)
  32. 6.1 はじめに / p64 (0036.jp2)
  33. 6.2 実験方法 / p65 (0037.jp2)
  34. 6.3 結果と検討 / p65 (0037.jp2)
  35. 6.4 小括 / p70 (0039.jp2)
  36. 6.5 参考文献 / p70 (0039.jp2)
  37. 第7章 Alメタライゼーション系へのAl₃Hf/Hf積層膜の拡散バリヤとしての適用 / p73 (0041.jp2)
  38. 7.1 はじめに / p74 (0041.jp2)
  39. 7.2 実験方法 / p74 (0041.jp2)
  40. 7.3 結果と検討 / p75 (0042.jp2)
  41. 7.4 小括 / p82 (0045.jp2)
  42. 7.5 参考文献 / p83 (0046.jp2)
  43. 第8章 高品質で低抵抗なHfN膜の形成過程に及ばすスパッタリング因子の影響 / p85 (0047.jp2)
  44. 8.1 はじめに / p86 (0047.jp2)
  45. 8.2 実験方法 / p87 (0048.jp2)
  46. 8.3 結果と検討 / p87 (0048.jp2)
  47. 8.4 小括 / p100 (0054.jp2)
  48. 8.5 参考文献 / p100 (0054.jp2)
  49. 第9章 (001)と(111)Si基板上でのHfN膜のエピタキシャル成長とAl/HfN積層膜の連続単配向成長 / p103 (0056.jp2)
  50. 9.1 はじめに / p104 (0056.jp2)
  51. 9.2 実験方法 / p105 (0057.jp2)
  52. 9.3 結果と検討 / p105 (0057.jp2)
  53. 9.4 小括 / p115 (0062.jp2)
  54. 9.5 参考文献 / p116 (0062.jp2)
  55. 第10章 Al/HfN/Hf/Si連続単配向成長コンタクト系の熱的安定性の評価 / p117 (0063.jp2)
  56. 10.1 はじめに / p118 (0063.jp2)
  57. 10.2 実験方法 / p119 (0064.jp2)
  58. 10.3 結果と検討 / p120 (0064.jp2)
  59. 10.4 小括 / p128 (0068.jp2)
  60. 10.5 参考文献 / p128 (0068.jp2)
  61. 第11章 全体総括と結論 / p129 (0069.jp2)
  62. 研究業績リスト / p133 (0071.jp2)
  63. 謝辞 / p137 (0073.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000187453
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000187736
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000351767
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ