NiおよびNi合金の電析挙動と機械的特性に関する研究

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著者

    • 久保田, 昭 クボタ, アキラ

書誌事項

タイトル

NiおよびNi合金の電析挙動と機械的特性に関する研究

著者名

久保田, 昭

著者別名

クボタ, アキラ

学位授与大学

九州大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第5091号

学位授与年月日

2000-03-27

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 緒言 / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 本研究の背景と位置付け / p5 (0010.jp2)
  5. 1.3 本研究の構成 / p14 (0019.jp2)
  6. 参考文献 / p15 (0020.jp2)
  7. 第2章 スルファミン酸浴からの電析Ni皮膜の疲労特性 / p18 (0023.jp2)
  8. 2.1 緒言 / p18 (0023.jp2)
  9. 2.2 実験条件 / p18 (0023.jp2)
  10. 2.3 実験結果および考察 / p22 (0027.jp2)
  11. 2.4 結言 / p42 (0047.jp2)
  12. 参考文献 / p43 (0048.jp2)
  13. 第3章 スルファミン酸浴からの電析CO-Ni合金めっきの電析挙動と諸特性 / p45 (0050.jp2)
  14. 3.1 緒言 / p45 (0050.jp2)
  15. 3.2 実験方法 / p45 (0050.jp2)
  16. 3.3 実験結果および考察 / p47 (0052.jp2)
  17. 3.3 結言 / p65 (0070.jp2)
  18. 参考文献 / p66 (0071.jp2)
  19. 第4章 アンモニア性クエン酸塩浴からの鉄族金属―Wめっきの電析挙動とその皮膜特性 / p68 (0073.jp2)
  20. 4.1 緒言 / p68 (0073.jp2)
  21. 4.2 実験条件 / p68 (0073.jp2)
  22. 4.3 実験結果および考察 / p70 (0075.jp2)
  23. 4.4 結言 / p82 (0087.jp2)
  24. 参考文献 / p82 (0087.jp2)
  25. 第5章 実機プロセス適用への指針 / p84 (0089.jp2)
  26. 5.1 緒言 / p84 (0089.jp2)
  27. 5.2 硫酸浴からのNiめっき皮膜中へのS共析 / p85 (0090.jp2)
  28. 5.3 イオン交換膜を適用した電気めっき装置 / p85 (0090.jp2)
  29. 5.4 Co-Ni合金めっき皮膜中へのC共析による機械的特性の向上 / p88 (0093.jp2)
  30. 5.5 結言 / p91 (0096.jp2)
  31. 参考文献 / p91 (0096.jp2)
  32. 第6章 総括 / p93 (0098.jp2)
  33. 謝辞 / (0101.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000187613
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000187896
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000351927
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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