シングルイオン注入法による微小半導体の電気的特性制御に関する研究 Study on control of electrial characteristics in fine semiconductor region by single ion implantation

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著者

    • 品田, 賢宏 シナダ, タカヒロ

書誌事項

タイトル

シングルイオン注入法による微小半導体の電気的特性制御に関する研究

タイトル別名

Study on control of electrial characteristics in fine semiconductor region by single ion implantation

著者名

品田, 賢宏

著者別名

シナダ, タカヒロ

学位授与大学

早稲田大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第1435号

学位授与年月日

2000-03-15

注記・抄録

博士論文

制度:新 ; 文部省報告番号:甲1435号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:2000/3/15 ; 早大学位記番号:新2953 ; 理工学図書館請求番号:2442

本文PDFは平成22年度国立国会図書館の学位論文(博士)のデジタル化実施により作成された画像ファイルをPDFに変換したものである。

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 研究の背景および目的 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 本研究の概要 / p6 (0010.jp2)
  5. 第2章 シングルイオン注入法の開発 / p9 (0013.jp2)
  6. 2.1 シングルイオン注入法の原理 / p9 (0013.jp2)
  7. 2.2 シングルイオン注入装置の構成 / p11 (0015.jp2)
  8. 2.3 シングルイオン注入法の注入イオン個数制御性の評価 / p16 (0020.jp2)
  9. 2.4 液体金属イオン源の開発 / p23 (0027.jp2)
  10. 2.5 シングルイオン注入装置の周辺装置 / p34 (0038.jp2)
  11. 2.6 第2章のまとめ / p41 (0045.jp2)
  12. 第3章 2次電子検出率向上および高精度照準のためのシングルイオン用集束イオンビーム光学系の改造 / p44 (0048.jp2)
  13. 3.1 2次電子検出率向上および高精度照準の必要性 / p44 (0048.jp2)
  14. 3.2 シングルイオン用集束イオンビーム光学系の改造 / p48 (0052.jp2)
  15. 3.3 2次電子検出率の評価 / p50 (0054.jp2)
  16. 3.4 照準精度の評価 / p52 (0056.jp2)
  17. 3.5 第3章のまとめ / p55 (0059.jp2)
  18. 第4章 テスト試料の作製 / p57 (0061.jp2)
  19. 4.1 テスト試料作製の目的 / p57 (0061.jp2)
  20. 4.2 テスト試料の構造 / p59 (0063.jp2)
  21. 4.3 集束イオンビームと化学エッチングを利用した微細加工法の提案 / p66 (0070.jp2)
  22. 4.4 4端子測定用微細シリコンパターンの形成 / p74 (0078.jp2)
  23. 4.5 第4章のまとめ / p77 (0081.jp2)
  24. 第5章 シングルイオン注入法による半導体電気的特性のゆらぎ制御 / p80 (0084.jp2)
  25. 5.1 半導体電気的特性ゆらぎ制御の意義 / p80 (0084.jp2)
  26. 5.2 注入イオン数の決定方法 / p81 (0085.jp2)
  27. 5.3 基板バイアスによる表面ポテンシャル制御の必要性 / p85 (0089.jp2)
  28. 5.4 シングルイオン1個当たりの半導体電気的特性変化量の定量的評価 / p88 (0092.jp2)
  29. 5.5 テスト試料のコンダクタンスゆらぎの補正 / p94 (0098.jp2)
  30. 5.6 第5章のまとめ / p101 (0105.jp2)
  31. 第6章 結論 / p103 (0107.jp2)
  32. 謝辞 / p106 (0110.jp2)
  33. 研究業績 / p107 (0111.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000188488
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000188771
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000352802
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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