KrFエキシマレーザ露光用レジストおよびレジストプロセスに関する研究 keiaruefu ekishima reza rokoyo rejisuto oyobi rejisuto purosesu ni kansuru kenkyu

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著者

    • 河合, 義夫 カワイ, ヨシオ

書誌事項

タイトル

KrFエキシマレーザ露光用レジストおよびレジストプロセスに関する研究

タイトル別名

keiaruefu ekishima reza rokoyo rejisuto oyobi rejisuto purosesu ni kansuru kenkyu

著者名

河合, 義夫

著者別名

カワイ, ヨシオ

学位授与大学

早稲田大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第1473号

学位授与年月日

1999-06-17

注記・抄録

博士論文

制度:新 ; 文部省報告番号:乙1473号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:1999-06-17 ; 早大学位記番号:新2855 ; 理工学図書館請求番号:2392

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 レジスト材料の開発経緯 / p3 (0006.jp2)
  5. 1.3 研究目的と研究内容 / p5 (0007.jp2)
  6. 参考文献 / p7 (0008.jp2)
  7. 第2章 非化学増幅型レジストを用いたパタン形成 / p12 (0011.jp2)
  8. 2.1 はじめに / p12 (0011.jp2)
  9. 2.2 レジストパタン形状のシミュレーション / p12 (0011.jp2)
  10. 2.3 実験による検証 / p14 (0012.jp2)
  11. 2.4 まとめ / p16 (0013.jp2)
  12. 参考文献 / p17 (0013.jp2)
  13. 第3章 化学増幅型シリコーン系ネガ型レジスト / p25 (0017.jp2)
  14. 3.1 はじめに / p25 (0017.jp2)
  15. 3.2 ベースポリマの合成とアルカリ溶解性 / p26 (0018.jp2)
  16. 3.3 レジスト特性 / p28 (0019.jp2)
  17. 3.4 CSNRのレジスト化学 / p30 (0020.jp2)
  18. 3.5 まとめ / p31 (0020.jp2)
  19. 参考文献 / p32 (0021.jp2)
  20. 第4章 KrF露光用化学増幅型ポジレジスト / p41 (0025.jp2)
  21. 4.1 はじめに / p41 (0025.jp2)
  22. 4.2 材料設計とレジスト組成 / p41 (0025.jp2)
  23. 4.3 tBOC化率のパタン形成へ及ぼす影響 / p45 (0027.jp2)
  24. 4.4 分子量のパタン形成へ及ぼす影響 / p46 (0028.jp2)
  25. 4.5 分散のパタン形成へ及ぼす影響 / p46 (0028.jp2)
  26. 4.6 レジスト持性 / p47 (0028.jp2)
  27. 4.7 まとめ / p48 (0029.jp2)
  28. 参考文献 / p49 (0029.jp2)
  29. 第5章 ポジ型化学増幅型レジストの環境耐性の向上 / p57 (0033.jp2)
  30. 5.1 はじめに / p57 (0033.jp2)
  31. 5.2 基板界面汚染のパタン形成に及ぼす影響 / p58 (0034.jp2)
  32. 5.3 有機塩基添加による環境耐性の向上 / p58 (0034.jp2)
  33. 5.4 不揮発性有機塩基添加による配線パタン形成持性の向上 / p61 (0035.jp2)
  34. 5.5 まとめ / p64 (0037.jp2)
  35. 参考文献 / p65 (0037.jp2)
  36. 第6章 化学増幅型レジストを用いたLSIパタン形成 / p75 (0042.jp2)
  37. 6.1 はじめに / p75 (0042.jp2)
  38. 6.2 反射防止技術 / p76 (0043.jp2)
  39. 6.3 ポリヒドロキシスチレンの光架橋反応 / p77 (0043.jp2)
  40. 6.4 耐熱性 / p78 (0044.jp2)
  41. 6.5 まとめ / p79 (0044.jp2)
  42. 参考文献 / p81 (0045.jp2)
  43. 第7章 化学増幅型レジストによるパタン形成限界の追求 / p89 (0049.jp2)
  44. 7.1 はじめに / p89 (0049.jp2)
  45. 7.2 回折光バランス法によるイメージナローイング / p90 (0050.jp2)
  46. 7.3 0.1μm級パタン形成特性 / p90 (0050.jp2)
  47. 7.4 まとめ / p91 (0050.jp2)
  48. 参考文献 / p92 (0051.jp2)
  49. 第8章 総括 / p96 (0053.jp2)
  50. 謝辞 / p100 (0055.jp2)
  51. 研究業績 / p102 (0056.jp2)
5アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000188525
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000188808
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000352839
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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