セラミックス上の無電解めっき膜の密着性向上に関する基礎研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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セラミックス上の無電解めっき膜の密着性向上に関する基礎研究
- 著者名
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有泉, 直子
- 著者別名
-
アリイズミ, ナオコ
- 学位授与大学
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山梨大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
-
甲第92号
- 学位授与年月日
-
2000-03-24
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / (0003.jp2)
- 第1章 緒論 / p1 (0006.jp2)
- 1.1 本研究の背景 / p1 (0006.jp2)
- 1.2 本研究の目的と概要 / p7 (0012.jp2)
- 参考文献 / p11 (0016.jp2)
- 第2章 Pd触媒の析出状態の評価 / p13 (0018.jp2)
- 2.1 緒言 / p13 (0018.jp2)
- 2.2 実験方法 / p15 (0020.jp2)
- 2.3 結果および考察 / p17 (0022.jp2)
- 2.4 結言 / p25 (0030.jp2)
- 参考文献 / p27 (0032.jp2)
- 第3章 無電解Ni-Pめっき初期析出過程に及ぼす触媒の分散効果 / p29 (0034.jp2)
- 3.1 緒言 / p29 (0034.jp2)
- 3.2 実験方法 / p31 (0036.jp2)
- 3.3 結果および考察 / p33 (0038.jp2)
- 3.4 結言 / p44 (0049.jp2)
- 参考文献 / p45 (0050.jp2)
- 第4章 無電解Ni-Pめっき膜の密着性に及ぼすPd触媒の分散効果 / p47 (0052.jp2)
- 4.1 緒言 / p47 (0052.jp2)
- 4.2 実験方法 / p48 (0053.jp2)
- 4.3 結果および考察 / p51 (0056.jp2)
- 4.4 結言 / p63 (0068.jp2)
- 参考文献 / p65 (0070.jp2)
- 第5章 総括 / p66 (0071.jp2)
- 謝辞 / p69 (0074.jp2)
- 発表論文リスト / p70 (0075.jp2)