セラミックス上の無電解めっき膜の密着性向上に関する基礎研究

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著者

    • 有泉, 直子 アリイズミ, ナオコ

書誌事項

タイトル

セラミックス上の無電解めっき膜の密着性向上に関する基礎研究

著者名

有泉, 直子

著者別名

アリイズミ, ナオコ

学位授与大学

山梨大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第92号

学位授与年月日

2000-03-24

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 緒論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 本研究の背景 / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 本研究の目的と概要 / p7 (0012.jp2)
  5. 参考文献 / p11 (0016.jp2)
  6. 第2章 Pd触媒の析出状態の評価 / p13 (0018.jp2)
  7. 2.1 緒言 / p13 (0018.jp2)
  8. 2.2 実験方法 / p15 (0020.jp2)
  9. 2.3 結果および考察 / p17 (0022.jp2)
  10. 2.4 結言 / p25 (0030.jp2)
  11. 参考文献 / p27 (0032.jp2)
  12. 第3章 無電解Ni-Pめっき初期析出過程に及ぼす触媒の分散効果 / p29 (0034.jp2)
  13. 3.1 緒言 / p29 (0034.jp2)
  14. 3.2 実験方法 / p31 (0036.jp2)
  15. 3.3 結果および考察 / p33 (0038.jp2)
  16. 3.4 結言 / p44 (0049.jp2)
  17. 参考文献 / p45 (0050.jp2)
  18. 第4章 無電解Ni-Pめっき膜の密着性に及ぼすPd触媒の分散効果 / p47 (0052.jp2)
  19. 4.1 緒言 / p47 (0052.jp2)
  20. 4.2 実験方法 / p48 (0053.jp2)
  21. 4.3 結果および考察 / p51 (0056.jp2)
  22. 4.4 結言 / p63 (0068.jp2)
  23. 参考文献 / p65 (0070.jp2)
  24. 第5章 総括 / p66 (0071.jp2)
  25. 謝辞 / p69 (0074.jp2)
  26. 発表論文リスト / p70 (0075.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000189101
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000189384
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000353415
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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