機能水を用いたシリコン基板の新しい洗浄技術に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
-
機能水を用いたシリコン基板の新しい洗浄技術に関する研究
- 著者名
-
森田, 博志
- 著者別名
-
モリタ, ヒロシ
- 学位授与大学
-
東北大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
-
甲第7421号
- 学位授与年月日
-
2000-03-23
注記・抄録
博士論文
博士学位論文 (Thesis(doctor))
目次
- 目次 / (0004.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0007.jp2)
- 1.1 研究の背景 / p1 (0007.jp2)
- 1.2 本研究の目的 / p3 (0009.jp2)
- 1.3 本論文の構成 / p3 (0009.jp2)
- 参考文献 / p5 (0011.jp2)
- 第2章 ウェット洗浄プロセス用水素水 / p7 (0013.jp2)
- 2.1 はじめに / p7 (0013.jp2)
- 2.2 水素水洗浄の着想 / p7 (0013.jp2)
- 2.3 ガス溶解方式水素水製造システムの開発 / p10 (0016.jp2)
- 2.4 水素水洗浄の微粒子除去効果 / p13 (0019.jp2)
- 2.5 水素水洗浄のウェハ表面平坦度への影響 / p20 (0026.jp2)
- 2.6 水素以外の気体溶解水による洗浄 / p22 (0028.jp2)
- 2.7 水素水洗浄による微粒子除去メカニズム / p23 (0029.jp2)
- 2.8 微粒子除去以外の水素水適用技術 / p33 (0039.jp2)
- 2.9 まとめ / p33 (0039.jp2)
- 参考文献 / p35 (0041.jp2)
- 第3章 ウェット洗浄プロセス用オゾン水 / p38 (0044.jp2)
- 3.1 はじめに / p38 (0044.jp2)
- 3.2 オゾン水の洗浄効果 / p38 (0044.jp2)
- 3.3 溶存オゾンの自己分解特性 / p41 (0047.jp2)
- 3.4 オゾン水長距離供給システムの開発 / p42 (0048.jp2)
- 3.5 気液混合溶解方式のユニット装置への応用 / p48 (0054.jp2)
- 3.6 まとめ / p49 (0055.jp2)
- 参考文献 / p50 (0056.jp2)
- 第4章 ウェット洗浄プロセスのあるべき姿 / p52 (0058.jp2)
- 4.1 はじめに / p52 (0058.jp2)
- 4.2 全5工程室温洗浄プロセス(UCT洗浄プロセス) / p52 (0058.jp2)
- 4.3 全4工程室温洗浄プロセス(改良型UCT洗浄プロセス) / p53 (0059.jp2)
- 4.4 ガス溶解機能水がもたらすメリット / p55 (0061.jp2)
- 4.5 機能水洗浄の将来性とウェット洗浄プロセスの方向性 / p56 (0062.jp2)
- 4.6 まとめ / p58 (0064.jp2)
- 参考文献 / p59 (0065.jp2)
- 第5章 結論 / p61 (0067.jp2)
- 謝辞 / p64 (0070.jp2)
- 本研究に関する発表 / p65 (0071.jp2)