放射光X線回折法による極薄膜SOI(Silicon on Insulator)ウエーハの構造評価に関する研究

Access this Article

Search this Article

Author

    • 福田, 一徳 フクダ, カズノリ

Bibliographic Information

Title

放射光X線回折法による極薄膜SOI(Silicon on Insulator)ウエーハの構造評価に関する研究

Author

福田, 一徳

Author(Another name)

フクダ, カズノリ

University

大阪大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

甲第9157号

Degree year

2003-03-25

Note and Description

博士論文

5access

preview

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000231744
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000232264
  • Text Lang
    • jpn
  • NDLBibID
    • 000004137141
  • Source
    • Institutional Repository
    • NDL ONLINE

Export

Page Top