Studies on low dielectric film process using high-density plasma 高密度プラズマを用いた低誘電率膜プロセスに関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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Studies on low dielectric film process using high-density plasma
- タイトル別名
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高密度プラズマを用いた低誘電率膜プロセスに関する研究
- 著者名
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永井, 久雄
- 著者別名
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ナガイ, ヒサオ
- 学位授与大学
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名古屋大学
- 取得学位
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博士 (工学)
- 学位授与番号
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甲第5874号
- 学位授与年月日
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2003-03-25
注記・抄録
博士論文