極薄ゲート絶縁膜/シリコン界面における化学結合状態と電子状態に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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極薄ゲート絶縁膜/シリコン界面における化学結合状態と電子状態に関する研究
- 著者名
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高橋, 健介
- 著者別名
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タカハシ, ケンスケ
- 学位授与大学
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武蔵工業大学
- 取得学位
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博士 (工学)
- 学位授与番号
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甲第76号
- 学位授与年月日
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2003-03-19
注記・抄録
博士論文
極薄ゲート絶縁膜/シリコン界面における化学結合状態と電子状態に関する研究
高橋, 健介
タカハシ, ケンスケ
武蔵工業大学
博士 (工学)
甲第76号
2003-03-19
博士論文