選択エピタキシャル成長技術とそのMOSデバイスへの応用に関する研究 センタク エピタキシャル セイチョウ ギジュツ ト ソノ MOS デバイス エノ オウヨウ ニカンスル ケンキュウ

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Author

    • 中畑, 匠 ナカハタ, タクミ

Bibliographic Information

Title

選択エピタキシャル成長技術とそのMOSデバイスへの応用に関する研究

Other Title

センタク エピタキシャル セイチョウ ギジュツ ト ソノ MOS デバイス エノ オウヨウ ニカンスル ケンキュウ

Author

中畑, 匠

Author(Another name)

ナカハタ, タクミ

University

奈良先端科学技術大学院大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

甲第347号

Degree year

2003-09-30

Note and Description

博士論文

5access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000243705
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000244327
  • DOI(JaLC)
  • Text Lang
    • jpn
  • NDLBibID
    • 000004286634
  • Source
    • Institutional Repository
    • NDL ONLINE
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