シリコン-シリコン酸化膜界面の界面電荷密度の研究

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著者

    • 三浦, 義男 ミウラ, ヨシオ

書誌事項

タイトル

シリコン-シリコン酸化膜界面の界面電荷密度の研究

著者名

三浦, 義男

著者別名

ミウラ, ヨシオ

学位授与大学

九州大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第1892号

学位授与年月日

1976-12-20

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000300255
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000301070
  • NDL書誌ID
    • 000007737513
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
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