フルオロカーボンプラズマによるシリコン酸化膜エッチング表面反応解析に関する研究 Surface reactions during silicon oxide etching using fluorocarbon plasma
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著者
書誌事項
- タイトル
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フルオロカーボンプラズマによるシリコン酸化膜エッチング表面反応解析に関する研究
- タイトル別名
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Surface reactions during silicon oxide etching using fluorocarbon plasma
- 著者名
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石川, 健治
- 著者別名
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イシカワ, ケンジ
- 学位授与大学
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東北大学
- 取得学位
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博士 (工学)
- 学位授与番号
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甲第10868号
- 学位授与年月日
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2006-03-24
注記・抄録
博士論文