Growth and characterization of oxide heterointerface for field-effect devices 電界効果デバイス構築に向けた酸化物ヘテロ界面の作製と評価

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著者

    • 渋谷, 圭介 シブヤ, ケイスケ

書誌事項

タイトル

Growth and characterization of oxide heterointerface for field-effect devices

タイトル別名

電界効果デバイス構築に向けた酸化物ヘテロ界面の作製と評価

著者名

渋谷, 圭介

著者別名

シブヤ, ケイスケ

学位授与大学

東京大学

取得学位

博士 (科学)

学位授与番号

甲第21578号

学位授与年月日

2006-03-23

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000359983
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000361119
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000008488919
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
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