Si及びSi窒化膜の成長

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著者

    • 小川, 博司 オガワ, ヒロシ

書誌事項

タイトル

Si及びSi窒化膜の成長

著者名

小川, 博司

著者別名

オガワ, ヒロシ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第752号

学位授与年月日

1973-01-16

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000370666
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000371825
  • NDL書誌ID
    • 000008525819
  • データ提供元
    • NDL ONLINE

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