Plasma enhanced chemical vapor deposition and electrical characterization of diamond-like carbon thin films プラズマCVD法によるダイヤモンドライクカーボン薄膜の堆積と電気的特性評価

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著者

    • Md.Kamrul Hassan モハメド カムル ハサン

書誌事項

タイトル

Plasma enhanced chemical vapor deposition and electrical characterization of diamond-like carbon thin films

タイトル別名

プラズマCVD法によるダイヤモンドライクカーボン薄膜の堆積と電気的特性評価

著者名

Md.Kamrul Hassan

著者別名

モハメド カムル ハサン

学位授与大学

高知工科大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第118号

学位授与年月日

2007-09-28

注記・抄録

博士論文

高知工科大学博士(工学) 平成19年9月28日授与 (甲第118号)

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000435148
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000436449
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000009364191
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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