エレベイテッドソース・ドレイン技術による微細MOSFETの高性能化に関する研究

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

    • 杉原, 浩平 スギハラ, コウヘイ

書誌事項

タイトル

エレベイテッドソース・ドレイン技術による微細MOSFETの高性能化に関する研究

著者名

杉原, 浩平

著者別名

スギハラ, コウヘイ

学位授与大学

京都大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第12197号

学位授与年月日

2008-03-24

注記・抄録

博士論文

新制・論文博士

乙第12197号

論工博第3986号

1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000436403
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000437714
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000009379303
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
ページトップへ