エナンチオ選択的フッ素化反応の開発並びにヘテロ原子の不斉導入反応の開発

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著者

    • 石丸, 剛久 イシマル, タケヒサ

書誌事項

タイトル

エナンチオ選択的フッ素化反応の開発並びにヘテロ原子の不斉導入反応の開発

著者名

石丸, 剛久

著者別名

イシマル, タケヒサ

学位授与大学

名古屋工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第636号

学位授与年月日

2008-03-24

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000438681
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000440016
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000009436805
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
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