プラズマ共重合による低誘電率絶縁膜形成技術の研究 Plasma-enhanced co-polymerization for low-k film deposition

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著者

    • 川原, 潤 カワハラ, ジュン

書誌事項

タイトル

プラズマ共重合による低誘電率絶縁膜形成技術の研究

タイトル別名

Plasma-enhanced co-polymerization for low-k film deposition

著者名

川原, 潤

著者別名

カワハラ, ジュン

学位授与大学

広島大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第4384号

学位授与年月日

2007-05-18

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000439815
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000441159
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000009480169
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
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