SiGeスパッタエピタキシー技術と高速デバイスへの応用 SiGe sputter epitaxy technology and its application to high-speed devices

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著者

    • 花房, 宏明 ハナフサ, ヒロアキ

書誌事項

タイトル

SiGeスパッタエピタキシー技術と高速デバイスへの応用

タイトル別名

SiGe sputter epitaxy technology and its application to high-speed devices

著者名

花房, 宏明

著者別名

ハナフサ, ヒロアキ

学位授与大学

東京農工大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第741号

学位授与年月日

2011-06-15

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000546606
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000548688
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 023228421
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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