Study on interface properties between organic semiconductor materials and gate insulators, and their application to high-performance organic thin-film transistor 有機半導体とゲート絶縁膜の界面物性と高性能な有機薄膜トランジスタ応用に関する研究

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著者

    • 藤崎, 好英 フジサキ, ヨシヒデ

書誌事項

タイトル

Study on interface properties between organic semiconductor materials and gate insulators, and their application to high-performance organic thin-film transistor

タイトル別名

有機半導体とゲート絶縁膜の界面物性と高性能な有機薄膜トランジスタ応用に関する研究

著者名

藤崎, 好英

著者別名

フジサキ, ヨシヒデ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第8014号

学位授与年月日

2010-03-26

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000547712
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000549805
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 023314220
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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