A study on homo- and hetero-epitaxy of ZnO thin layers by halide vapor phase epitaxy ハライド気相成長法によるZnO薄膜成長に関する研究

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著者

    • 増田, 塁 マスダ, ルイ

書誌事項

タイトル

A study on homo- and hetero-epitaxy of ZnO thin layers by halide vapor phase epitaxy

タイトル別名

ハライド気相成長法によるZnO薄膜成長に関する研究

著者名

増田, 塁

著者別名

マスダ, ルイ

学位授与大学

東京農工大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第756号

学位授与年月日

2012-03-27

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000561638
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000563852
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 023909692
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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